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J-GLOBAL ID:200903007591677594

板状のワークの温度制御方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 絹谷 信雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000268424
Publication number (International publication number):2002072492
Application date: Aug. 31, 2000
Publication date: Mar. 12, 2002
Summary:
【要約】【課題】 板状のワークを極短時間に設定温度に調整できる板状のワークの温度制御方法及びその装置を提供する。【解決手段】 露光装置11等に移送する精密加工が施される板状のワークとしてのガラス基板13を設定温度にするための板状のワークの温度制御方法において、ガラス基板13の表面に前後左右に間隔を置いて多数のノズル27を設け、その各ノズル27から温度調整された温調空気をガラス基板13に向けて吹き出してガラス基板13を設定温度に調整するようにしたものである。
Claim (excerpt):
露光装置等に移送する精密加工が施される板状のワークを設定温度にするための板状のワークの温度制御方法において、板状のワークの表面に前後左右に間隔を置いて多数のノズルを設け、その各ノズルから温度調整された温調空気をワークに向けて吹き出してワークを設定温度に調整することを特徴とする板状のワークの温度制御方法。
IPC (3):
G03F 7/20 501 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500
FI (3):
G03F 7/20 501 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500
F-Term (11):
2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JB02 ,  2H090JD19 ,  2H090LA04 ,  2H097BA02 ,  2H097BA10 ,  2H097LA12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特開昭59-195829
  • プロキシミティ露光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-189272   Applicant:日立電子エンジニアリング株式会社
  • 電着レジスト乾燥装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-147818   Applicant:大日本印刷株式会社
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