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J-GLOBAL ID:200903007785299370

先鋭探針の製造方法およびその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中村 純之助
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996102585
Publication number (International publication number):1997288115
Application date: Apr. 24, 1996
Publication date: Nov. 04, 1997
Summary:
【要約】【課題】探針の有効部分のアスペクト比(縦横比)が高く、化学的に安定な種々の材質を用いて先鋭探針を作製することが可能な先鋭探針の製造方法およびそれを実施する装置を提供する。【解決手段】走査プローブ顕微鏡、電界放射電子源、電界放射イオン源、電極またはセンサに用いられる細線もしくは探針を先鋭化する先鋭探針の製造方法およびその装置であって、先鋭探針を形成する物質をイオン化する工程と、イオンに電圧を印加して、イオンを電界集中により探針母材の先端部に集中して付着させる工程を少なくとも用いて、アスペクト比の高い突起を探針母材の先端部に形成する先鋭探針の製造方法およびそれを実施する装置。
Claim (excerpt):
走査プローブ顕微鏡、電界放射電子源、電界放射イオン源、電極またはセンサに用いられる細線もしくは探針を先鋭化する先鋭探針の製造方法であって、先鋭探針を形成する物質をイオン化する工程と、上記イオンに電圧を印加して、該イオンを電界集中により探針母材の先端部に集中して付着させる工程を少なくとも用いて、アスペクト比の高い突起を探針母材の先端部に形成することを特徴とする先鋭探針の製造方法。
IPC (3):
G01N 37/00 ,  G01B 21/30 ,  G01R 1/067
FI (3):
G01N 37/00 C ,  G01B 21/30 Z ,  G01R 1/067 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平3-179202
  • 試料表面加工用チップ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-045287   Applicant:日本電子株式会社

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