微細構造体、パターン媒体、及びそれらの製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：磯野道造 , 多田悦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006142247
Publication number (International publication number)：2007313568
Application date： May. 23, 2006
Publication date： Dec. 06, 2007
Summary：

【課題】高分子ブロック共重合体のミクロ相分離現象を用いて、柱状ミクロドメインが、膜の貫通方向に配向するとともに規則パターンの配列を有する微細構造体を提供することを課題にする。【解決手段】微細構造体(30)の連続相(10)を構成する第1セグメントとこの連続相(10)の貫通方向に配向するミクロドメイン(20)を構成する第2セグメントとを有する高分子ブロック共重合体を少なくとも含む高分子層を基板(40)に塗布する第1段階と、第1セグメントを構成する第1素材(A)と基板(40)の表面(X)との界面張力、及び第2セグメント(22)を構成する第2素材(B)と基板(40)の表面(X)との界面張力の両方の界面張力が等しくなる中性温度(Tn)で基板(40)を熱処理する第2段階とを含むことを特徴とする。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

少なくとも第1セグメント及び第2セグメントを有する高分子ブロック共重合体を含む高分子層を相分離させて形成される微細構造体の製造方法において、前記高分子ブロック共重合体が表面に配置されている基板を前記相分離が発現する特定の温度で熱処理した後に前記相分離した構造が維持される速度で冷却することを特徴とする微細構造体の製造方法。

IPC (2)：

B82B 3/00 , B82B 1/00

FI (2)：

B82B3/00 , B82B1/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

記録媒体、記録媒体の製造方法、および記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-082436 Applicant：株式会社東芝
ポリマーの相分離を利用した表面加工法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-292199 Applicant：工業技術院長, デュポン株式会社, 日本モトローラ株式会社
垂直配向ラメラ構造を有するブロック共重合体膜作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-260512 Applicant：関西ティー・エル・オー株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

“ブロック共重合体の球-シリンダー転移を利用したナノシリンダー構造の膜面垂直配向化”

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