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J-GLOBAL ID：200903007793825447

有機高分子ゲルの製造方法

Inventor： 田門 肇 ,  向井 紳 ,  佐々木 龍朗
Applicant, Patent owner： 田門 肇 ,  向井 紳 ,  住友ベークライト株式会社
Agent (2)： 赤塚 賢次 ,  福田 保夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003182847
Publication number (International publication number)：2005015649
Application date： Jun. 26, 2003
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：

【課題】メソ孔やミクロ孔が発達しており、炭化処理した際の残炭率が高い有機高分子ゲルを安価に製造する方法を提供すること。【解決手段】フェノール類化合物とアルデヒド類化合物とを水溶媒中でゾル-ゲル法により重合させて有機ヒドロキシゲルを合成するゲル化工程、及び、前記有機ヒドロキシゲルを低体積変化率乾燥法により乾燥する乾燥工程を有する有機高分子ゲルの製造方法。前記ゲル化工程において、前記水溶媒を前記フェノール類化合物及び前記アルデヒド類化合物の合計量1重量部に対して10〜60重量部用いることが好ましい。また、前記フェノール類化合物が、フェノール性水酸基を1分子あたり1個有することが好ましい。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

フェノール類化合物とアルデヒド類化合物とを水溶媒中でゾル-ゲル法により重合させて有機ヒドロキシゲルを合成するゲル化工程、及び、前記有機ヒドロキシゲルを低体積変化率乾燥法により乾燥する乾燥工程を有することを特徴とする有機高分子ゲルの製造方法。

IPC (2)：

C08G8/04 ,  B01J20/26

FI (2)：

C08G8/04 ,  B01J20/26 A

F-Term (24)：

4G066AB05A ,  4G066AB06A ,  4G066AC25B ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA28 ,  4G066DA02 ,  4G066DA08 ,  4G066FA07 ,  4G066FA09 ,  4G066FA21 ,  4G066FA31 ,  4G066FA37 ,  4J033CA01 ,  4J033CA02 ,  4J033CA05 ,  4J033CA11 ,  4J033CA12 ,  4J033CB02 ,  4J033CB27 ,  4J033CC01 ,  4J033CD06 ,  4J033HA13 ,  4J033HB00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 炭素材料及び活性炭の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-184739   Applicant：旭硝子株式会社
• フェノ-ル樹脂硬化物の再生利用方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-049375   Applicant：松下電器産業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• `Porous Structure of Organic and Carbon Aerogels synthesized by Sol-Gel Polycondensation of Resorcin