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J-GLOBAL ID：200903007921897995

微細構造体の製造方法

Inventor：
石田 方哉

About 石田 方哉


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (1)： 上柳 雅誉 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000202199
Publication number (International publication number)：2002023356
Application date： Jul. 04, 2000
Publication date： Jan. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】 200nm以下の波長域の紫外光を用いた場合、フォトマスクの基材である石英基板や、大気などでの紫外光の吸収が多いため、紫外光の照射装置に特別の工夫が必要であった。【解決手段】 基板表面に有機分子膜を形成した後に、波長が200nm以上、380nm以下の範囲の紫外光を照射して、有機分子膜の一部を除去する
Claim (excerpt)：
基板表面に膜厚が3nm以下の有機分子膜を形成した後に、波長が200nm以上、380nm以下の範囲の紫外光を照射して、有機分子膜の一部を除去する微細構造体の製造方法。
IPC (6)：
G03F 7/004 531 ,  B05D 3/06 102 ,  B05D 7/24 302 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027
FI (7)：
G03F 7/004 531 ,  B05D 3/06 102 B ,  B05D 7/24 302 Y ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 562
F-Term (25)：
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BF29 ,  2H025BF30 ,  2H025BG00 ,  2H097CA13 ,  2H097FA03 ,  2H097GA45 ,  2H097LA10 ,  4D075BB20Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB50Z ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EB42 ,  5F046CA04 ,  5F046CA07 ,  5F046CB17 ,  5F046JA01 ,  5F046JA22 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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