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J-GLOBAL ID:200903007943322180
傷検査装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松崎 清
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995231699
Publication number (International publication number):1997081736
Application date: Sep. 08, 1995
Publication date: Mar. 28, 1997
Summary:
【要約】【課題】 検出精度を上げて信頼性を向上させ、空間占有率を小さくし、かつ位置ずれ補正を容易にする。【解決手段】 被検査部材1に光源2からの光を当て、その反射光を撮像装置(CAMERA)で撮像して傷の有無を検出するに当たり、CAMERAを図示の如く例えば3台(31〜33)設けることにより、検出精度を上げられるようにし、信頼性を向上させる。このとき、ビームスプリッタ41〜43を介在させることで、空間占有率を小さくする。さらに、CAMERA31〜33の出力から位置ずれ補正量を求め、その量に応じてメモリの読み出しアドレスを決定することで、機械的な手法によらず簡単に位置ずれ補正を可能とする。
Claim (excerpt):
光源により被検査部材の表面を照射し、被検査部材の同一ライン上からの反射光を複数の撮像手段にて撮像し、得られた撮像画像から被検査部材の傷の有無を検出可能にしたことを特徴とする傷検査装置。
IPC (3):
G06T 7/00
, G01N 21/88
, G01N 21/89
FI (4):
G06F 15/70 330 N
, G01N 21/88 J
, G01N 21/89 A
, G06F 15/62 400
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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特開平4-204148
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特開平4-065604
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特開平1-276004
-
特開昭63-244278
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オブジェクトの形状定義方法およびその方法を用いた装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-037884
Applicant:株式会社モノリス
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外観検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-141040
Applicant:株式会社日立製作所, 日立北海セミコンダクタ株式会社
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特開平1-307644
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画像処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-332529
Applicant:新光電気工業株式会社
-
撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-180482
Applicant:富士通株式会社
-
特開平4-002116
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