細長いナノ構造及び関連素子

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：松本研一 , 小倉博 , 黒川俊久
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006541308
Publication number (International publication number)：2007516919
Application date： Nov. 16, 2004
Publication date： Jun. 28, 2007
Summary：

【課題】細長いカーバイドナノ構造を製造する方法において、基材に複数の空間的に離隔した触媒粒子を施工する。【解決手段】空間的に離隔した触媒粒子及び基材の少なくとも一部を、予め選択された温度で、基材と触媒粒子の少なくとも1個との間に無機ナノ構造を形成させるのに十分な時間にわたって、含金属蒸気に曝露する。無機ナノ構造を、予め選択された温度で、無機ナノ構造を炭化するのに十分な時間にわたって、含炭素蒸気源に曝露する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

細長いカーバイドナノ構造を製造する方法であって、 (a)基材に複数の空間的に離隔した触媒粒子を施工するステップと、 (b)前記空間的に離隔した触媒粒子及び前記基材の少なくとも一部を、予め選択された温度で、前記基材と前記触媒粒子の少なくとも1個との間に当該含金属蒸気の金属を含む無機ナノ構造を形成させるのに十分な時間にわたって、含金属蒸気に曝露するステップと、 (c)前記無機ナノ構造を、予め選択された温度で、前記無機ナノ構造を炭化するのに十分な時間にわたって、含炭素蒸気源に曝露し、これにより細長いカーバイドナノ構造を生じさせるステップと、を備えた方法。

IPC (5)：

C01B 31/30 , B82B 3/00 , B82B 1/00 , H01J 1/304 , H01J 9/02

FI (5)：

C01B31/30 , B82B3/00 , B82B1/00 , H01J1/30 F , H01J9/02 B

F-Term (56)：

4G146MA06 , 4G146MA08 , 4G146MA18 , 4G146MA19 , 4G146MB04 , 4G146MB07 , 4G146MB09 , 4G146MB14 , 4G146NA02 , 4G146NA05 , 4G146NA12 , 4G146NA21 , 4G146NB04 , 4G146NB08 , 4G146NB11 , 5C127AA01 , 5C127AA05 , 5C127AA07 , 5C127AA09 , 5C127BA05 , 5C127BA09 , 5C127BA15 , 5C127BA20 , 5C127BB07 , 5C127BB15 , 5C127BB16 , 5C127BB18 , 5C127BB20 , 5C127CC03 , 5C127CC10 , 5C127DD25 , 5C127DD41 , 5C127DD52 , 5C127DD53 , 5C127DD78 , 5C127DD99 , 5C127EE04 , 5C127EE15 , 5C127EE16 , 5C135AA05 , 5C135AA09 , 5C135AA15 , 5C135AA20 , 5C135AB07 , 5C135AB15 , 5C135AB16 , 5C135AB18 , 5C135AB20 , 5C135AC03 , 5C135AC30 , 5C135FF18 , 5C135FF23 , 5C135FF30 , 5C135GG11 , 5C135HH04 , 5C135HH16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

米国特許第6472802号

Cited by examiner (3)

基板上での金属炭化物由来ナノロッドの合成/成長方法、それによって得られる基板およびその用途
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-559844 Applicant：コミツサリアタレネルジーアトミーク
表面被覆炭素繊維の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-261131 Applicant：日本セメント株式会社
炭化物系およびオキシ炭化物系の組成物およびナノロッド
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-593411 Applicant：ハイピリオンカタリシスインターナショナルインコーポレイテッド

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