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J-GLOBAL ID：200903008075319270

ズーム光学系及びそれを用いた撮像装置

Inventor：
秋山 健志

About 秋山 健志


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996054276
Publication number (International publication number)：1997222561
Application date： Feb. 15, 1996
Publication date： Aug. 26, 1997
Summary：
【要約】【課題】小型で、反射面の配置精度(組立精度)のバラツキ及び狂いが少なく、各光学素子の有効径が小さく、複数の反射面によって光学系内の光束をけられること無く所望の形状に屈曲し、所定方向の全長を短縮するズーム光学系及びそれを用いた撮像装置を得ること。【解決手段】 透明体の表面に2つの屈折面と複数の内面反射面を形成した光学素子、又は/及び相互に偏心した複数の表面鏡を一体的に形成し、入射光束が該複数の表面鏡の反射面で反射を繰り返して射出するように構成された光学素子と、共軸の屈折面で構成された光学素子とを複数有し、該複数の光学素子を介して物体の像を結像すると共に、該複数の光学素子のうち少なくとも2つの光学素子の相対的位置を変化させることにより変倍を行う。
Claim (excerpt)：
透明体の表面に2つの屈折面と複数の反射面を形成し、光束が1つの屈折面から該透明体の内部へ入射し、該複数の反射面で反射を繰り返して別の屈折面から射出するように構成された光学素子、又は/及び相互に偏心した複数の表面鏡を一体的に形成し、入射光束が該複数の表面鏡の反射面で反射を繰り返して射出するように構成された光学素子と、共軸の屈折面で構成された光学素子とを複数有し、該複数の光学素子を介して物体の像を結像すると共に、該複数の光学素子のうち少なくとも2つの光学素子の相対的位置を変化させることにより変倍を行うことを特徴とするズーム光学系。
IPC (2)：
G02B 15/14 ,  G02B 17/08
FI (2)：
G02B 15/14 ,  G02B 17/08 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
  • 非同軸共焦点ズーム反射光学系
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-145020   Applicant：防衛庁技術研究本部長
  • 特開昭57-044115
  • 特開昭57-044115
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