水素生成装置及び砕氷装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：長谷川芳樹 , 寺崎史朗 , 石田悟
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005132327
Publication number (International publication number)：2006306667
Application date： Apr. 28, 2005
Publication date： Nov. 09, 2006
Summary：

【課題】水素を効率良く生成することが可能な水素生成装置を提供する。【解決手段】水素生成に用いられる水などの水素生成媒体20と、媒体20に対して水素生成用の照射光Lを集光しつつ照射する集光光学系35と、媒体20において生成される水素を収集する水素収集系40とを備えて水素生成装置11を構成する。そして、集光光学系35は、水素生成媒体20中において照射光Lの集光照射による光反応が発生する条件を満たすように照射光Lを集光するとともに、水素収集系40は、光反応で媒体20中の物質が分解して生成される水素を収集する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水素生成に用いられる水素生成媒体と、前記水素生成媒体に対して水素生成用の照射光を集光しつつ照射する集光光学系と、前記水素生成媒体において生成される水素を収集する水素収集手段とを備え、前記集光光学系は、前記水素生成媒体中において前記照射光の集光照射による光反応が発生する条件を満たすように前記照射光を集光するとともに、前記水素収集手段は、前記光反応で前記水素生成媒体中の物質が分解して生成される水素を収集することを特徴とする水素生成装置。

IPC (2)：

C01B 3/04 , B01J 35/02

FI (2)：

C01B3/04 A , B01J35/02 J

F-Term (10)：

4G169AA02 , 4G169BA04B , 4G169BA48A , 4G169BB04B , 4G169BC50B , 4G169BD02B , 4G169CC33 , 4G169HA01 , 4G169HB01 , 4G169HE09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

水素製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-152599 Applicant：名古屋大学長

Cited by examiner (7)

特開昭49-109956
特開平3-275291
特開昭61-097102

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