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J-GLOBAL ID:200903023407417580

水素製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 興作 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001152599
Publication number (International publication number):2002338201
Application date: May. 22, 2001
Publication date: Nov. 27, 2002
Summary:
【要約】【課題】 効率的に水素を発生させる。【解決手段】 水に放射線を照射して、水を分解して、水素を発生させる。この水中に、金属を存在させ、これに放射線を照射すると、水素の発生効率が向上する。また、この金属が水素吸蔵金属の場合、生成した水素を選択的に取り出すことができるので、水素製造効率が一段と向上する。
Claim (excerpt):
水を分解することにより水素を製造する方法であって、水に放射線を照射して、水を分解することを特徴とする水素製造方法。
IPC (5):
C01B 3/04 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/12 ,  C01B 3/56 ,  G21F 9/06
FI (5):
C01B 3/04 R ,  B01J 19/00 C ,  B01J 19/12 C ,  C01B 3/56 A ,  G21F 9/06 Z
F-Term (21):
4G040FA02 ,  4G040FB02 ,  4G040FB03 ,  4G040FC01 ,  4G040FE01 ,  4G075AA05 ,  4G075BA05 ,  4G075BB04 ,  4G075BB05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA38 ,  4G075CA39 ,  4G075CA54 ,  4G075CA65 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4G075EE05 ,  4G075EE12 ,  4G075FB02 ,  4G075FC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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