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J-GLOBAL ID:200903008223939127

着色膜パターンの形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996109856
Publication number (International publication number):1997297211
Application date: Apr. 30, 1996
Publication date: Nov. 18, 1997
Summary:
【要約】【課題】 高品質、高性能な、マトリックスパターンと一体化された着色膜パターンを形成する。【解決手段】 基板上(1)に形成したマトリックスパターン(4)に対してレジストパターン(5)を配設し、顔料もしくは染料を用いてプラズマ利用の成膜により着色膜(6)として膜付けし、次いでレジストを剥離して着色膜パターン(7)を得る。
Claim (excerpt):
基板上の形成したマトリックスパターンに対してレジストパターンを配設し、顔料もしくは染料を真空槽内で蒸発させてプラズマを利用した成膜により着色膜を成膜し、次いでレジストを剥離することを特徴とする着色膜パターンの形成方法。
IPC (5):
G02B 5/20 101 ,  C23C 14/04 ,  C23F 1/00 102 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 505
FI (5):
G02B 5/20 101 ,  C23C 14/04 B ,  C23F 1/00 102 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 505
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 硬質カラー薄膜の製造法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-346490   Applicant:村山洋一
  • 特開昭60-084505
  • 特開昭60-104901

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