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J-GLOBAL ID：200903008544438090
アライメント装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995103815
Publication number (International publication number)：1996306602
Application date： Apr. 27, 1995
Publication date： Nov. 22, 1996
Summary：
【要約】【目的】 ウエハマークの段差を正確に或る特別な光路長に合わせることなく、ウエハマークの非対称の影響を軽減してウエハマークの位置を正確に検出する。【構成】 レーザ光源11A〜11Cは異なる波長のレーザビームを発生する。ウエハマークの段差に応じて、波長差が所定の値になるようにレーザ光源11A〜11Cから2つのレーザ光源を選択して点灯駆動する。選択された2つのレーザ光源からのレーザビームを同軸に合成し、合成された光束Bを音響光学素子14,18を介して2つの周波数差を有するアライメント光に変換し、これらアライメント光をレンズ24、ビームスプリッター26等を介してウエハマークに照射する。
Claim (excerpt)：
マスクパターンを感光基板上に転写する露光装置に設けられ、前記感光基板上に形成された凹凸パターンよりなる位置合わせ用マークの位置に基づいて前記マスクパターンと前記感光基板との位置合わせを行うアライメント装置において、前記位置合わせ用マークに対して互いに異なる複数の波長の光を照射する照射光学系と、前記位置合わせ用マークからの光束を受光して前記位置合わせ用マークの位置に応じた検出信号を生成する受光光学系と、前記位置合わせ用マークの段差に応じて前記照射光学系から前記位置合わせ用マークに照射される複数の波長の光の波長差を設定する波長制御手段と、を有することを特徴とするアライメント装置。
IPC (2)：
FI (5)：
H01L 21/30 525 D
, G03F 9/00 G
, H01L 21/30 521
, H01L 21/30 525 M
, H01L 21/30 525 L
Cited by examiner (5)
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