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J-GLOBAL ID:200903008658166138

流体制御システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平木 祐輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004235940
Publication number (International publication number):2006051459
Application date: Aug. 13, 2004
Publication date: Feb. 23, 2006
Summary:
【課題】できるだけ部品点数の少ないコンパクトな構成で複雑な化学反応プロセスを自動化する。【解決手段】流体制御システムは、複数の密閉可能な容器と、該複数の容器を互いに接続する流路と、上記容器の内圧を調節する圧力調節装置と、を有し、上記容器の内圧の差を利用して上記容器間にて溶液を移送させる。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
複数の密閉可能な容器と、該複数の容器を互いに接続する流路と、上記容器の内圧を調節する圧力調節装置と、を有し、上記容器の内圧の差を利用して上記容器間にて溶液を移送させることを特徴とする流体制御システム。
IPC (4):
B01J 4/00 ,  B01F 3/08 ,  B01J 19/00 ,  G01N 37/00
FI (4):
B01J4/00 103 ,  B01F3/08 Z ,  B01J19/00 321 ,  G01N37/00 101
F-Term (16):
4G035AB37 ,  4G068AA01 ,  4G068AB11 ,  4G068AC17 ,  4G068AD36 ,  4G068AF40 ,  4G075AA13 ,  4G075AA39 ,  4G075AA61 ,  4G075BA10 ,  4G075CA05 ,  4G075DA02 ,  4G075EB50 ,  4G075EE04 ,  4G075EE12 ,  4G075FC20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 特開昭61-125429
  • 特開昭61-118127
  • 処理液供給装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-099186   Applicant:住友精密工業株式会社
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