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J-GLOBAL ID：200903008686280620
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びめっきレジストの製造法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995016568
Publication number (International publication number)：1995261386
Application date： Feb. 03, 1995
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 無電解銅めっき用フォトレジストとして好適な感光性樹脂組成物、該組成物の層と該層を支持する支持体フィルムとからなる感光性エレメント及びめっきレジストの製造法。【構成】 (A)一般式(I)〔式中、R1は2価の飽和脂肪族炭化水素基、R2及びR3は炭素原子数1〜4のアルキル基等、x及びyは0〜4の整数である〕で示される繰り返し単位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂中の水酸基に対して、エチレン性不飽和基及びイソシアネート基をそれぞれ1個有する化合物と、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を、反応させて得られるカルボキシル基含有不飽和ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個含有する光重合性不飽和化合物及び(C)活性光により遊離ラジカルを生成する光開始剤を含有する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びめっきレジストの製造法。
Claim (excerpt)：
(A)一般式(I)【化1】〔式中、R1は2価の飽和脂肪族炭化水素基を表し、R2及びR3はそれぞれ独立に炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、x及びyはそれぞれ独立に0〜4の整数である〕で示される繰り返し単位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂中の水酸基に対して、エチレン性不飽和基及びイソシアネート基をそれぞれ1個有する化合物と、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を、当量比(イソシアネート基/水酸基)=0.01〜0.5及び当量比(酸無水物/水酸基)=0.15〜0.8の範囲として反応させて得られるカルボキシル基含有不飽和ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物20〜90重量部、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個含有する光重合性不飽和化合物80〜10重量部及び(C)活性光により遊離ラジカルを生成する光開始剤0.01〜20重量部(ただし、(A)成分及び(B)成分の総量を100重量部とする)を含有する感光性樹脂組成物。
IPC (7)：
G03F 7/027 513
, G03F 7/027 502
, G03F 7/004 512
, G03F 7/031
, G03F 7/038 501
, H05K 3/06
, H05K 3/18
Cited by examiner (5)
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