フォトマスクおよびこれを用いた凹凸体の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998040737
Publication number (International publication number)：1999237625
Application date： Feb. 23, 1998
Publication date： Aug. 31, 1999
Summary：

【要約】【課題】安価であり、凹凸体における曲面状凹凸部の形状を制御できるフォトマスクを得、このようなフォトマスクを用いることにより所望の形状の曲面状凹凸部を有する凹凸体を生産性良く製造でき、しかも大面積の曲面状凹凸部も容易に形成できる凹凸体の製造方法の提供。【解決手段】凹凸体用基材32上に形成された感光性樹脂層34を、表面が平坦な透明基板2上に曲面状凹凸部4aを有し、凹凸部4aの形状に合わせて光透過量を調整する樹脂層4が形成されてなるフォトマスク1を使用して露光し、ついで現像する凹凸体の製造方法。

Claim (excerpt)：

表面が平坦な透明基板上に、曲面状凹凸部を有し、該凹凸部の形状に合わせて光透過量を調整する樹脂層が形成されてなることを特徴とするフォトマスク。

IPC (6)：

G02F 1/1335 520 , G02B 3/00 , G02B 5/02 , G02B 5/08 , G03F 1/08 , B29D 11/00

FI (7)：

G02F 1/1335 520 , G02B 3/00 A , G02B 3/00 Z , G02B 5/02 C , G02B 5/08 B , G03F 1/08 Z , B29D 11/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

光学部品、光学部品マザー、それらの製造方法、及び関連製品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-205652 Applicant：株式会社日立製作所
フォトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-059013 Applicant：株式会社クラレ
反射板及び液晶表示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-008368 Applicant：株式会社東芝

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