Pat
J-GLOBAL ID：200903008807523313

化学気相堆積用リアクタ

Inventor：
コアイ, キース

About コアイ, キース

, 
ジョンソン, マーク

About ジョンソン, マーク

, 
チャン, メイ

About チャン, メイ

, 
レイ, ローレンス, チャン, ライ

About レイ, ローレンス, チャン, ライ


Applicant, Patent owner：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

About アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド


Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000531602
Publication number (International publication number)：2002503765
Application date： Feb. 09, 1999
Publication date： Feb. 05, 2002
Summary：
【要約】プラズマステップを含み、TDMAT前駆体を用いた窒化チタンの化学気相堆積用に特別に構成されたプラズマ反応チャンバを提供する。シャワーヘッド電極アセンブリ(200)のガスキャビティから、多数のシャワーヘッドの孔を通してウェーハ(10)にわたる処理領域(26)内にガスが注入される。シャワーヘッド電極は、処理領域においてガスのプラズマを形成するように、RFエネルギーの励起が可能である。アセンブリのシャワーヘッド電極と他の部品は、ガスキャビティの上方に配置され、シャワーヘッド電極のリムに接続された冷却板(200)によって冷却される。冷却板には、断面が小さく多数の屈曲部を有する渦巻き型の冷却水路(162)が形成されて乱流を生じさせるため、熱が転移しやすくなる。水冷却板は、広い水平方向のインタフェースにわたってシャワーヘッド電極に接続されるため、さらに熱が流れやすくなる。
Claim (excerpt)：
基板を支持する台を含む反応チャンバと、 前記台の反対側にありその上方に平行に設けられ、複数の貫通孔と、前記面板の表面の上側と前記孔の外側に延びるリムを有するシャワーヘッド面板部材であって、前記孔は前記面板部材を含むシャワーヘッドアセンブリ内から前記基板に隣接する処理領域へ処理ガスを輸送する、シャワーヘッド面板部材と、 底側では前記面板部材に固定され、上側では冷却液を通す渦巻き型の経路が形成された冷却板と、を備える、化学気相堆積装置。
IPC (4)：
C23C 16/455 ,  C23C 16/34 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285
FI (4)：
C23C 16/455 ,  C23C 16/34 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C
F-Term (28)：
4K030AA03 ,  4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030BA17 ,  4K030BA38 ,  4K030CA12 ,  4K030EA05 ,  4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030KA17 ,  4K030KA23 ,  4K030KA26 ,  4K030KA30 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  4M104BB14 ,  4M104BB30 ,  4M104DD44 ,  4M104DD45 ,  5F045AA08 ,  5F045AB40 ,  5F045AF03 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF05 ,  5F045EH13 ,  5F045EK07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM