Pat
J-GLOBAL ID:200903008881525506
段差測定装置並びにこの段差測定装置を用いたエッチングモニタ装置及びエッチング方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
杉村 暁秀 (外8名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999038635
Publication number (International publication number):2000241121
Application date: Feb. 17, 1999
Publication date: Sep. 08, 2000
Summary:
【要約】【課題】 透明基板に形成された微小深さの段差を透明基板の裏面側から測定できる段差測定装置並びにこの段差測定装置を用いたエッチング装置及びエッチング方法を提供する。【解決手段】 透明基板の裏面側から2本の互いに干渉性を有する光ビームを投射する。これらの光ビームは各段差面でそれぞれ反射する。2本の反射ビームを1本の干渉ビームに合成する。この際、一方の光路の光学距離を時間的に連続して変化させる。この干渉ビームを光検出器で受光して電気信号に変換する。光検出器からの出力信号は、段差に起因する位相情報と強制的に導入された位相情報を含む。信号処理回路は、時間と光検出器出力強度との関係を記憶する。そして、段差が形成される前の位相情報と段差が形成された後の位相情報とを比較することにより、段差に起因する位相情報を位相シフト量と取り出すことができる。
Claim (excerpt):
第1の面及びこの第1の面と対向する裏面となる第2の面を具える光学的に透明な基板の、第1の面又はその上側に形成され、互いに屈折率の相違する2個の媒質により構成される第1の界面と同様に屈折率の相違する2個の媒質により構成される第2の界面との間のこれら界面と直交する方向の距離である段差を光学的に測定する段差測定装置であって、光ビームを発生する光源装置と、前記光源装置から発生した光ビームから互いに干渉性を有する2本の光ビームを発生する光学系と、これら2本の光ビームを前記透明基板の裏面である第2の面に向けて投射する対物レンズと、透明基板の第2の面を透過し第1の界面及び第2の界面でそれぞれ反射した2本の反射ビームの位相を相対的にシフトさせると共にこれら2本の反射ビームを合成して干渉ビームを発生する干渉光学系と、この干渉光学系から出射した干渉ビームを受光し、前記干渉光学系により与えられた位相シフト量に対応した干渉ビームの振幅を出力する光検出器と、この光検出器に接続され、前記透明基板の第1の測定における位相シフト量に対する干渉ビームの振幅の変化の情報を含む第1の位相情報と前記第1の測定とは異なる第2の測定における位相シフト量に対する干渉ビームの振幅変化の情報を含む第2の位相情報との間の位相変位量を求め、得られた位相変位量から測定すべき段差の大きさ決定する信号処理装置とを具えることを特徴とする段差測定装置。
IPC (6):
G01B 11/02
, G01B 11/22
, G01N 21/88
, G03F 1/08
, G03F 7/40 521
, H01L 21/3065
FI (6):
G01B 11/02 G
, G01B 11/22 G
, G03F 1/08 S
, G03F 7/40 521
, G01N 21/88 645 A
, H01L 21/302 E
F-Term (50):
2F065AA25
, 2F065AA54
, 2F065BB13
, 2F065CC20
, 2F065DD04
, 2F065FF01
, 2F065FF07
, 2F065FF53
, 2F065GG03
, 2F065GG06
, 2F065GG07
, 2F065HH05
, 2F065JJ16
, 2F065LL02
, 2F065LL09
, 2F065LL12
, 2F065LL36
, 2F065LL42
, 2F065LL47
, 2F065NN05
, 2F065NN08
, 2F065QQ04
, 2F065QQ16
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065QQ34
, 2F065RR05
, 2F065UU07
, 2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051BA10
, 2G051CA03
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CC11
, 2G051EA30
, 2H095BB03
, 2H095BB14
, 2H095BC28
, 2H095BD04
, 2H095BD13
, 2H095BD15
, 2H095BD19
, 2H096AA25
, 2H096AA30
, 2H096HA11
, 2H096HA30
, 2H096LA30
, 5F004AA02
, 5F004CB09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
特公平7-006922
-
膜厚測定装置およびポリシング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-067146
Applicant:株式会社東芝
-
フォトマスク検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-034107
Applicant:株式会社ニコン
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