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J-GLOBAL ID:200903009000368787
表面プラズモンセンサ
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
中尾 直樹
, 中村 幸雄
, 草野 卓
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007328328
Publication number (International publication number):2009150749
Application date: Dec. 20, 2007
Publication date: Jul. 09, 2009
Summary:
【課題】検出すべき目的物質の効率的な付着を可能とし、高感度化を図る。【解決手段】複数の周期的な開口21が形成された金属薄膜20を誘電体基板10上に備えてなる表面プラズモン素子に目的物質を付着させ、その表面プラズモン素子に光を照射して開口21を透過する透過光32の、目的物質の付着に応じた変化を検出する表面プラズモンセンサにおいて、誘電体基板10の開口21と対応する各位置に、開口21と連繋する貫通孔11をそれぞれ設け、それら開口21とそれに連繋する貫通孔11とによって目的物質を含んだ流体41が流れる複数の流路を構成する。【選択図】図5
Claim (excerpt):
複数の周期的な開口が形成された金属薄膜を誘電体基板上に備えてなる表面プラズモン素子に目的物質を付着させ、その表面プラズモン素子に光を照射して開口を透過する透過光の、目的物質の付着に応じた変化を検出する表面プラズモンセンサにおいて、
前記誘電体基板の前記開口と対応する各位置に、開口と連繋する貫通孔がそれぞれ設けられ、それら開口とそれに連繋する貫通孔とによって前記目的物質を含んだ流体が流れる複数の流路が構成されていることを特徴とする表面プラズモンセンサ。
IPC (2):
FI (2):
G01N21/27 C
, G01N21/35 Z
F-Term (9):
2G059AA01
, 2G059BB04
, 2G059CC20
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE12
, 2G059FF04
, 2G059HH01
, 2G059HH06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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表面プラズモン共鳴を利用した測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-286189
Applicant:オリンパス光学工業株式会社, 理化学研究所
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光学測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-170988
Applicant:ヒューレット・パッカード・カンパニー
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特許第3008931号公報
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Cited by examiner (9)
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特許第3008931号
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標的物質認識素子、検出方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-188879
Applicant:キヤノン株式会社
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圧力センサハウジング
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-022386
Applicant:イートンコーポレーション
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水系金属空気電池およびこれを用いた電子機器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-082126
Applicant:東芝電池株式会社
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化学センサ、化学センサ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-177911
Applicant:キヤノン株式会社
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局在プラズモン共鳴センサ及びそれを用いた測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-056551
Applicant:株式会社モリテックス
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バイオセンサシステム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-265166
Applicant:新技術事業団
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光学素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-186044
Applicant:日本航空電子工業株式会社
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表面プラズモン素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-207392
Applicant:日本航空電子工業株式会社
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