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J-GLOBAL ID：200903009122735586

構造物の製造に関する装置および方法

Inventor：
ヘイダリ,ババク

About ヘイダリ,ババク


Applicant, Patent owner：
オブドゥカト アクティエボラーグ

About オブドゥカト アクティエボラーグ


Agent (1)： ▲吉▼川 俊雄
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001544087
Publication number (International publication number)：2003516644
Application date： Dec. 04, 2000
Publication date： May. 13, 2003
Summary：
【要約】ナノメートルサイズの構造物のリソグラフィに関連する装置が開示され、この装置は、第1の主に平らな表面(2a)を有する第1の主要部分(1)と、第2の主に平らな表面(9a)を有する第2の主要部分(3)とを具備し、該第1の表面と該第2の表面とは、互いに対向しており、互いに対して原則として平行に配列され、それらの間に調節可能な間隔を有し、該第1の表面および該第2の表面はそれぞれ、基板(5)およびテンプレート(10)用のサポートを形成するように配列され、または逆も同様である。本発明によると、該第2の主要部分(3)は、媒体用のキャビティ(6)と、該媒体の圧力を調節するための手段とを具備し、該キャビティの壁は、可撓性のある膜(9)から構成され、その一方の側は、該キャビティ(6)から離れて面しており、該第2の表面(9a)を形成する。本発明は、この装置を使用する方法にも関する。
Claim (excerpt)：
ナノメートルサイズの構造物のリソグラフィに関する装置であって、第1の主に平らな表面(2a)を有する第1の主要部分(1)と、第2の主に平らな表面(9a)を有する第2の主要部分(3)とを具備し、該第1の表面と該第2の表面とは互いに対向しており、互いに対して原則として平行に配列され、それらの間に調節可能な間隔を有し、該第1の表面および該第2の表面が、それぞれ、基板(5)およびテンプレート(10)用のサポートを形成するようにまた逆も同様に配列される装置において、該第2の主要部分(3)が、媒体用のキャビティ(6)と、該媒体の圧力を調節するための手段とを具備し、該キャビティの壁は、可撓性のある膜(9)から構成され、その一方の側は、キャビティ(6)から離れて面しており、該第2の表面(9a)を形成することを特徴とする装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  B81C 5/00 ,  G03F 7/20 501
FI (3)：
B81C 5/00 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 502 D
F-Term (7)：
2H097CA11 ,  5F046AA28 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC08 ,  5F046CC09 ,  5F046DA26
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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