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J-GLOBAL ID:200903009248419434

冷却装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 宮田 金雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000178170
Publication number (International publication number):2001358270
Application date: Jun. 14, 2000
Publication date: Dec. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 容易に冷却能力の向上が図れる冷却装置を得る。【解決手段】 発熱体2を冷却する流路4内に、冷却水6の流れ方向に沿った管状の孔12が多数本空いたポーラス部材11を設け、孔12内に冷却水6を流すように構成する。
Claim (excerpt):
発熱体を冷却する流路内に、冷却媒体の流れ方向に沿った管状の孔が多数本空いた多孔材を設け、上記孔内に上記冷却媒体を流すように構成したことを特徴とする冷却装置。
IPC (3):
H01L 23/473 ,  F28F 13/02 ,  H05K 7/20
FI (3):
F28F 13/02 D ,  H05K 7/20 N ,  H01L 23/46 Z
F-Term (8):
5E322AA07 ,  5E322EA11 ,  5E322FA01 ,  5E322FA04 ,  5F036AA01 ,  5F036BA05 ,  5F036BB43 ,  5F036BD01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開平4-069959
  • ポーラス金属の製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-239580   Applicant:科学技術振興事業団
Cited by examiner (3)
  • 半導体冷却装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-157790   Applicant:株式会社日立製作所
  • ポーラス金属の製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-239580   Applicant:科学技術振興事業団
  • 特開平4-069959

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