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J-GLOBAL ID：200903009381676555
フロンガス処理装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993198337
Publication number (International publication number)：1995047224
Application date： Aug. 10, 1993
Publication date： Feb. 21, 1995
Summary：
【要約】【目的】 フロンガスの分解効率を高めると共に小型化することができるフロンガス処理装置を提供する。【構成】 放電を利用してフロンガスを分解するフロンガス処理装置において、フロンガスを導入すると共に排出する塩化ビニル等の合成樹脂からなる筒体1と、筒体1内に設けられた放電電極5と、筒体1内の内面に水膜7を形成する水膜形成手段8と、水膜7と放電電極5との間に方形波パルス電圧を印加する方形波パルス電圧電源6とを備えたことを特徴としている。
Claim (excerpt)：
放電を利用してフロンガスを分解するフロンガス処理装置において、フロンガスを導入すると共に排出する塩化ビニル等の合成樹脂からなる筒体と、該筒体内に設けられた放電電極と、該筒体内の内面に水膜を形成する水膜形成手段と、該水膜と前記放電電極との間に方形波パルス電圧を印加する方形波パルス電圧電源とを備えたことを特徴とするフロンガス処理装置。
IPC (5)：
B01D 53/32 ZAB
, B01D 53/70
, B01J 19/08 ZAB
, C01B 7/01
, C01B 7/19
Cited by examiner (5)
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