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J-GLOBAL ID:200903009401309767

パルスレーザー発生装置およびパルスレーザー発生方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 川口 嘉之 ,  松倉 秀実 ,  和久田 純一 ,  遠山 勉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008111610
Publication number (International publication number):2009266894
Application date: Apr. 22, 2008
Publication date: Nov. 12, 2009
Summary:
【課題】マルチモードパルスレーザーの繰り返し周波数を高周波数化する。【解決手段】パルスレーザー発生装置は、モードロック方式によってレーザーパルス光を生成するレーザー共振器と、レーザーパルス光に含まれるモード光を間引く櫛形フィルター手段と、を有する。櫛形フィルター手段は、レーザーパルス光の周波数成分(モード)を一定周波数間隔で間引くことで、パルス列の繰り返し周波数が高められる。櫛形フィルター手段は、分光したレーザーパルス光に対して光学スリットを適用する構成とできる。また、櫛形フィルター手段として、エタロンを採用することも好適である。【選択図】図6
Claim (excerpt):
モードロック方式によってレーザーパルス光を生成するレーザー共振器と、 レーザーパルス光に含まれるモード光を間引く櫛形フィルター手段と、 を有するパルスレーザー発生装置。
IPC (1):
H01S 3/10
FI (1):
H01S3/10 Z
F-Term (8):
5F172AE06 ,  5F172AF07 ,  5F172NN27 ,  5F172NR04 ,  5F172NR05 ,  5F172NR06 ,  5F172ZA01 ,  5F172ZA04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (2)

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