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J-GLOBAL ID：200903009444659010

高度多孔性ポリ二フッ化ビニリデン膜

Inventor： ワン アイ ファン ,  ディーター ジェローム エフ ,  ゼプフ ロバート
Applicant, Patent owner： メムテック アメリカ コーポレイション
Agent (1)： 中村 稔 (外6名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997526315
Publication number (International publication number)：2000505719
Application date： Jan. 22, 1997
Publication date： May. 16, 2000
Summary：

【要約】本発明は、ポリ二フッ化ビリニデン(PVDF)ポリマー溶液及び/又は分散液を流延することにより形成した合成高分子材料に関する。本発明にしたがい形成した膜は全て高度多孔性である。内部等方性膜及び高度非対称性PVDF膜の両者が開示される。本発明の膜は種々の精密ろ過及び限外濾過において有用である。

Claim (excerpt)：

最小の孔を含む微孔性表面と、最大の孔を含む反対側表面と、両者の間にあって、ポリマー材料の繊維状ウェブから形成した多孔性担体を含む厚みを有することを特徴とする微孔性ポリ二フッ化ビニリデンポリマー膜。

IPC (5)：

B01D 71/34 ,  B01D 39/16 ,  B32B 5/14 ,  B32B 27/30 ,  C08J 9/28 CEW

FI (5)：

B01D 71/34 ,  B01D 39/16 C ,  B32B 5/14 ,  B32B 27/30 D ,  C08J 9/28 CEW

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特許第2899352号
  
• 精密ろ過膜および濾過方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-017624   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特開昭58-091732
  
• 特公平1-043619
  
• 耐オゾン性膜モジュール
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-040637   Applicant：旭化成工業株式会社