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J-GLOBAL ID：200903009550030252
二酸化塩素発生装置の制御方法および二酸化塩素発生装置
Inventor：
,
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Applicant, Patent owner：
Agent (4)：
板垣 孝夫
, 森本 義弘
, 笹原 敏司
, 原田 洋平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005124347
Publication number (International publication number)：2006297314
Application date： Apr. 22, 2005
Publication date： Nov. 02, 2006
Summary：
【課題】 運転停止後の装置内に残留する薬液による危険を防止することができる二酸化塩素発生装置の制御方法および装置を提供する。【解決手段】 反応部21へ複数の薬液24、25、26と希釈水22を供給し、反応部21において生成する二酸化塩素を希釈水22に溶解させて二酸化塩素水となす二酸化塩素発生装置において、運転時に薬液供給ポンプ27c、28c、29cの駆動により薬液供給系27、28、29を通して薬液24、25、26を反応部21へ供給し、運転停止時に、薬液供給系27、28、29の途中に設けた弁装置27b、28b、29bを切換操作し、薬液供給ポンプ27c、28c、29cの駆動により薬液24、25、26に替えて置換流体31を薬液供給系27、28、29に通水して置換後に薬液供給ポンプ27c、28c、29cを停止する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
反応部へ複数の薬液と希釈水を供給し、反応部において複数の薬液の反応により生成する二酸化塩素を希釈水に溶解させて二酸化塩素水となす二酸化塩素発生装置において、運転時に薬液供給手段の駆動により薬液供給系を通して薬液を反応部へ供給し、運転停止時に、薬液供給系の途中に設けた流路切換手段を切換操作し、薬液供給手段の駆動により薬液に替えて置換流体を薬液供給系に通水し、薬液供給系に残留する薬液を置換流体に置換して後に薬液供給手段を停止することを特徴とする二酸化塩素発生装置の制御方法。
IPC (2)：
FI (8)：
C02F1/50 550L
, C02F1/50 510A
, C02F1/50 520P
, C02F1/50 531M
, C02F1/50 540B
, C02F1/50 550D
, C02F1/50 560Z
, B01F15/02 A
4G037AA02
, 4G037AA18
, 4G037EA01
