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J-GLOBAL ID：200903077652723622

高純度な二酸化塩素水性組成物、その製造方法及び製造装置

Inventor： 小川 勝利 ,  下村 博一
Applicant, Patent owner： チッソ株式会社
Agent (1)： 的場 基憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997268221
Publication number (International publication number)：1999092104
Application date： Sep. 16, 1997
Publication date： Apr. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】 副生塩素を微量しか含有せず、ガスアウトが少なく、低コストで安全性が高く、しかも簡便な操作で得られる二酸化塩素水性組成物、その製造方法及び製造装置の提供。【解決手段】 溶存二酸化塩素量に対し、副生塩素量が1.15%以下の二酸化塩素水性組成物である。亜塩素酸塩溶液、次亜塩素酸塩溶液及び酸溶液の3液原料薬液、又は反応促進剤を含む亜塩素酸塩溶液及び酸溶液の2液原料薬液を、ほぼ常圧下における静的な撹拌下に清水に混合・反応させる製造方法である。製造装置は、ブロワー1、均圧タンク2、タンク4及び5を備える薬液供給システムと、反応器9と、希釈器10と、レシーバータンク11とを有する。タンク4、5からの薬液は反応器9で静的且つ均一に混合され、二酸化塩素を生成する。反応液は希釈器10の直前で清水と合流した後、均一に希釈され、所望濃度の二酸化塩素水とされ、レシーバータンク11に貯蔵される。

Claim (excerpt)：

溶存する二酸化塩素量に対し、溶存する副生塩素の含有量が1.15重量%以下であることを特徴とする高純度な二酸化塩素の水性組成物。

IPC (2)：

C01B 11/02 ,  A01N 59/08

FI (3)：

C01B 11/02 B ,  C01B 11/02 F ,  A01N 59/08 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 連続静的二酸化塩素水の製造方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-194346   Applicant：チッソ株式会社
• 簡易二酸化塩素発生機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-345253   Applicant：チッソ株式会社