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J-GLOBAL ID：200903009632036836

表面欠陥検査装置及び表面欠陥検査方法

Inventor： 二村 孝房 ,  門田 忠司 ,  門川 泰彦 ,  角田 隆
Applicant, Patent owner： 倉敷紡績株式会社 ,  丸紅テクノシステム株式会社 ,  株式会社アキュイティ
Agent (3)： 山田 卓二 ,  田中 光雄 ,  和田 充夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008003375
Publication number (International publication number)：2009168454
Application date： Jan. 10, 2008
Publication date： Jul. 30, 2009
Summary：

【課題】所定のパターンを有する光源を用いて表面が鏡面反射の性質を有する被検査物について、微細な傷を測定することができる。【解決手段】面光源3A,3Bから周期式が既知の前記パターン光を所定の位相ずつずらしながら被検査物100に投射可能した状態で、撮像装置5で被検査物を撮像し、撮像画像の画素ごとに、前記撮像装置5により撮像された前記パターン光の位相が異なる複数の撮像画像の輝度値を前記光源3A,3Bが照射するパターン光の周期式にあてはめ、画素ごとのパターン光の周期変化及び振幅を演算し、撮像画像の周期式の振幅の値に基づいて、前記振幅値を明度とする振幅画像を作成し、前記振幅画像に基づいて前記被検査物の表面欠陥を検査する。【選択図】図1A

Claim (excerpt)：

表面が鏡面反射の性質を有する被検査物に、輝度が周期的に変化するパターンを有するパターン光をその周期を変化させながら照射する光源と、パターン光が投影された前記被検査物を撮像する撮像装置と、前記撮像された画像に基づいて前記被検査物の表面欠陥を検査する演算部とを備えた表面欠陥検査装置であって、 前記光源は、周期式が既知の前記パターン光を所定の位相ずつずらしながら前記被検査物に投射可能な面光源であり、 前記演算部は、 前記被検査物の撮像画像の所定の分割領域ごとに、前記撮像装置により撮像された前記パターン光の位相が異なる複数の撮像画像の輝度値及び前記光源が照射するパターン光の周期式に基づいて、位相及び振幅を演算し、 前記撮像画像の周期式の振幅の値に基づいて、前記振幅値を明度とする振幅画像を作成し、前記振幅画像に基づいて前記被検査物の表面欠陥を検査することを特徴とする、表面欠陥検査装置。

IPC (1)：

G01N 21/95

FI (1)：

G01N21/95 A

F-Term (8)：

2G051AA71 ,  2G051AB02 ,  2G051AB07 ,  2G051BB01 ,  2G051BC01 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 表面検査方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-111170   Applicant：松下電器産業株式会社