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J-GLOBAL ID:200903009692606143

光半導体素子及び光半導体装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 敬四郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000299755
Publication number (International publication number):2002111059
Application date: Sep. 29, 2000
Publication date: Apr. 12, 2002
Summary:
【要約】【課題】 光半導体素子において、正孔のn型クラッド層へのオーバーフローと光取り出し効率の低下を防止する。【解決手段】 n型MgxZn1-xOクラッド層5と、その上に形成されたInyGa1-yN活性層11と、その上に形成されたp型MgzZn1-zOクラッド層15と、n型MgxZn1-xOクラッド層5に対して電気的にコンタクトを形成する第1の電極23と、p型MgzZn1-zOクラッド層15に対して電気的にコンタクトを形成する第2の電極25とを含む。
Claim (excerpt):
n型MgxZn1-xOクラッド層と、前記n型MgxZn1-xOクラッド層上に形成されたInyGa1-yN活性層と、前記InyGa1-yN活性層上に形成されたp型MgzZn1-zOクラッド層と、前記n型MgxZn1-xOクラッド層に対して電気的にコンタクトを形成する第1の電極と、前記p型MgzZn1-zOクラッド層に対して電気的にコンタクトを形成する第2の電極とを含む光半導体素子。
IPC (2):
H01L 33/00 ,  H01S 5/343
FI (2):
H01L 33/00 C ,  H01S 5/343
F-Term (19):
5F041AA03 ,  5F041CA34 ,  5F041CA40 ,  5F041CA41 ,  5F041CA82 ,  5F041CA88 ,  5F041CB15 ,  5F041DA14 ,  5F041DA20 ,  5F041DB08 ,  5F041FF06 ,  5F073AA74 ,  5F073CA07 ,  5F073CA22 ,  5F073CB05 ,  5F073CB07 ,  5F073CB19 ,  5F073CB22 ,  5F073DA06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 半導体装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-036363   Applicant:株式会社東芝

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