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J-GLOBAL ID:200903009692606143
光半導体素子及び光半導体装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高橋 敬四郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000299755
Publication number (International publication number):2002111059
Application date: Sep. 29, 2000
Publication date: Apr. 12, 2002
Summary:
【要約】【課題】 光半導体素子において、正孔のn型クラッド層へのオーバーフローと光取り出し効率の低下を防止する。【解決手段】 n型MgxZn1-xOクラッド層5と、その上に形成されたInyGa1-yN活性層11と、その上に形成されたp型MgzZn1-zOクラッド層15と、n型MgxZn1-xOクラッド層5に対して電気的にコンタクトを形成する第1の電極23と、p型MgzZn1-zOクラッド層15に対して電気的にコンタクトを形成する第2の電極25とを含む。
Claim (excerpt):
n型MgxZn1-xOクラッド層と、前記n型MgxZn1-xOクラッド層上に形成されたInyGa1-yN活性層と、前記InyGa1-yN活性層上に形成されたp型MgzZn1-zOクラッド層と、前記n型MgxZn1-xOクラッド層に対して電気的にコンタクトを形成する第1の電極と、前記p型MgzZn1-zOクラッド層に対して電気的にコンタクトを形成する第2の電極とを含む光半導体素子。
IPC (2):
FI (2):
H01L 33/00 C
, H01S 5/343
F-Term (19):
5F041AA03
, 5F041CA34
, 5F041CA40
, 5F041CA41
, 5F041CA82
, 5F041CA88
, 5F041CB15
, 5F041DA14
, 5F041DA20
, 5F041DB08
, 5F041FF06
, 5F073AA74
, 5F073CA07
, 5F073CA22
, 5F073CB05
, 5F073CB07
, 5F073CB19
, 5F073CB22
, 5F073DA06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-036363
Applicant:株式会社東芝
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