個別粒子を生成する方法及び機器

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：恩田博宣 , 恩田誠
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002538445
Publication number (International publication number)：2004511894
Application date： Oct. 23, 2001
Publication date： Apr. 15, 2004
Summary：

後続の分析(例えば質量分析)または操作を行うための個別粒子を生成する方法及び機器を開示する。粒子生成器により個別粒子を生成する。誘導電極により実効電荷を粒子上に誘導する。粒子を浮揚装置に送達した後、電気力学的に浮揚させる。粒子が液滴の場合、脱溶媒が生じ、液滴のクーロン分裂が起こって、より小さい液滴になる。1つ(又は複数)の浮揚液滴の動きを電極アセンブリによって操作することが可能である。本発明の一態様では、1つ(又は複数)の液滴及びその上に誘導された電荷を、質量分析装置に送達し、エレクトロスプレーイオン化技術の有害な空間電荷効果なしで、質量分析用のイオン源を提供することが可能である。本発明の別の態様では、1つ(又は複数)の浮揚粒子を制御可能に精確にプレート上に被着させ、マトリックス支援レーザ脱離イオン化質量分析法により後続の分析にかけることが可能である。

Claim (excerpt)：

後続の分析または操作用の個別粒子を生成する機器であって、 (a)個別粒子を生成する粒子生成器と、 (b)前記個別粒子に実効電荷を誘導する誘導電極と、 (c)前記実効電荷の誘導後、前記個別粒子を電気力学的に浮揚させる浮揚装置とを備える前記機器。

IPC (6)：

H01J49/10 , G01N27/62 , G21K1/00 , G21K1/087 , H01J49/04 , H01J49/06

FI (7)：

H01J49/10 , G01N27/62 F , G01N27/62 V , G21K1/00 A , G21K1/087 Z , H01J49/04 , H01J49/06

F-Term (13)：

5C038EE02 , 5C038EF04 , 5C038EF16 , 5C038EF17 , 5C038EF21 , 5C038FF07 , 5C038GG07 , 5C038GG08 , 5C038GH05 , 5C038GH09 , 5C038GH11 , 5C038GH13 , 5C038GH15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

四重極イオン蓄積リング
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-018619 Applicant：株式会社日立製作所
大気圧イオン源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-233380 Applicant：日本電子株式会社
特開昭63-318061

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