光学素子の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：渡邉昌幸 , 磯村雅俊
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004165387
Publication number (International publication number)：2005345762
Application date： Jun. 03, 2004
Publication date： Dec. 15, 2005
Summary：

【課題】従来の光学素子の性能を凌駕し、小型化、高性能化が容易に実現でき、高価な製造装置を必要とせず、省エネルギープロセスで実現できる技術を提供すること。【解決手段】微粒子の自己組織化現象を利用して基板101上に第一の物質からなる第一の微粒子102を所望のパターン形状に配列する工程と、第一の微粒子101が配列した領域以外の領域に、第一の物質とは異なる第二の物質からなり第一の微粒子とほぼ同じ径を有する第二の微粒子103を配列する工程からなる。また、第一の微粒子および第二の微粒子によって形成された空隙に、第一および第二の物質のいずれとも異なる第三の物質からなる材料を充填する工程、第一または第二の微粒子のいずれか一方を選択的に除去する工程、除去によって形成された空隙に第三の物質からなる材料を充填する工程を含むようにしてもよい。【選択図】図1-C

Claim (excerpt)：

微粒子の自己組織化現象を利用して、基板上に第一の物質からなる第一の微粒子を所望のパターン形状に配列する工程と、前記第一の微粒子が配列した領域以外の領域に、前記第一の物質とは異なる第二の物質からなり前記第一の微粒子とほぼ同じ径を有する第二の微粒子を配列する工程とを含むことを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (2)：

G02B6/13 , G02B6/12

FI (3)：

G02B6/12 M , G02B6/12 Z , G02B6/12 N

F-Term (6)：

2H047KA03 , 2H047LA12 , 2H047PA21 , 2H047QA01 , 2H047QA05 , 2H047RA08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (18)

フォトニック構造を有する周期構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-120192 Applicant：キヤノン株式会社
光導波路、三次元光導波路回路および光学システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-250334 Applicant：ジェイエスアール株式会社
光導波路素子、三次元光導波路回路および光学システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-165421 Applicant：名古屋大学長

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Cited by examiner (2)

周期性構造物の製造方法およびその方法で製造される周期性構造物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-342461 Applicant：株式会社リコー
微粒子構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-276736 Applicant：株式会社リコー

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

Langmuir, 20020514, Vol.18, No.10, p.4155-4159

Cited by examiner (1)

Langmuir, 20020514, Vol.18, No.10, p.4155-4159

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