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J-GLOBAL ID：200903009943270590

垂直磁気記録媒体及びその製造方法

Inventor： 杉本 利夫 ,  稲村 良作 ,  下田 一正 ,  大島 武典 ,  渦巻 拓也
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (4)： 眞鍋 潔 ,  柏谷 昭司 ,  渡邊 弘一 ,  伊藤 壽郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005064178
Publication number (International publication number)：2006252605
Application date： Mar. 08, 2005
Publication date： Sep. 21, 2006
Summary：

【課題】 垂直磁気記録媒体及びその製造方法に関し、裏打層の結晶化を防ぐことによって表面を平坦化し、中間層及び磁気記録層の任意のエピタキシャルな結晶成長を可能にする。【解決手段】 非晶質或いは析出型微結晶の軟磁性体膜からなる裏打層1と磁気記録層3との間に非磁性中間層2を設けた垂直磁気記録媒体の裏打層1の表面粗さRa を1.0nm以下とし、表面うねり振幅を2nm以下、うねり周期を1μm以上とする。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

非晶質或いは析出型微結晶の軟磁性体膜からなる裏打層と磁気記録層との間に非磁性中間層を設けた垂直磁気記録媒体において、前記裏打層の表面粗さRa が1.0nm以下であり、表面うねり振幅が2nm以下、うねり周期が1μm以上であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。

IPC (3)：

G11B 5/667 ,  G11B 5/738 ,  G11B 5/851

FI (3)：

G11B5/667 ,  G11B5/738 ,  G11B5/851

F-Term (7)：

5D006BB08 ,  5D006CA03 ,  5D006CA05 ,  5D006CA06 ,  5D112AA04 ,  5D112FA04 ,  5D112FB26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 軟磁性層を形成した基板の製造方法、軟磁性層を形成した基板、磁気記録媒体及び磁気記録装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-341570   Applicant：三菱化学株式会社

Cited by examiner (3)

• 垂直磁気記録媒体、その製造方法及び製造装置、並びに磁気記録装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-288835   Applicant：高橋研, アネルバ株式会社, 富士電機株式会社, 三菱化学株式会社, 株式会社アルバック
• 垂直磁気記録媒体用基板、垂直磁気記録媒体及びそれらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-201242   Applicant：富士電機デバイステクノロジー株式会社
• 軟磁性層を形成した基板の製造方法、軟磁性層を形成した基板、磁気記録媒体及び磁気記録装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-341570   Applicant：三菱化学株式会社