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J-GLOBAL ID：200903009999219600

電気光学装置の製造方法、電気光学装置及び投射型表示装置

Inventor：
安川 昌宏

About 安川 昌宏


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999149711
Publication number (International publication number)：2000338903
Application date： May. 28, 1999
Publication date： Dec. 08, 2000
Summary：
【要約】【課題】 TFTアレイ基板上に遮光膜を設けた形式の電気光学装置の製造方法において、遮光性の高い遮光膜を得る製造方法を提供する。【解決手段】 電気光学装置は、石英基板(10)上に半導体膜からなるチャネル領域(1a’)と、これに対応して配置された遮光膜(11a)とを有するTFTアレイ基板(40)を具備する。遮光膜11aはWSi(タングステンシリサイド)からなり、これを覆うようにノンドープシリケートガラス(12)を形成した状態で、特定の温度範囲で熱処理を行うことにより、遮光膜の遮光性を高くし、薄膜トランジスタのチャネル領域に入射される戻り光等の光による薄膜トランジスタの特性劣化を防止できる。
Claim (excerpt)：
基板上に金属を有する遮光膜を形成する工程と、少なくとも前記遮光膜を覆うように無機絶縁膜を形成する工程と、前記遮光膜及び無機絶縁膜が形成された基板を1000°Cより高く1200°C以下の温度範囲で熱処理する熱処理工程と、前記基板上の前記遮光膜に対応する位置に半導体層を形成する工程とを有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
IPC (11)：
G09F 9/30 349 ,  G09F 9/30 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/13357 ,  G02F 1/1365 ,  G03B 21/00 ,  G03B 33/12 ,  G09F 9/00 360 ,  G09F 9/00 ,  H01L 29/786
FI (11)：
G09F 9/30 349 C ,  G09F 9/30 C ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/1335 500 ,  G03B 21/00 D ,  G03B 33/12 ,  G09F 9/00 360 N ,  G09F 9/00 360 D ,  G02F 1/1335 530 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 619 B
F-Term (137)：
2H088EA12 ,  2H088HA04 ,  2H088HA10 ,  2H088HA13 ,  2H088HA14 ,  2H088HA20 ,  2H088HA23 ,  2H088HA24 ,  2H088HA28 ,  2H088MA02 ,  2H091FA05X ,  2H091FA05Z ,  2H091FA10X ,  2H091FA10Z ,  2H091FA14X ,  2H091FA14Z ,  2H091FA21X ,  2H091FA21Z ,  2H091FA26X ,  2H091FA26Z ,  2H091FA34Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FA41Z ,  2H091FD06 ,  2H091GA06 ,  2H091GA07 ,  2H091GA08 ,  2H091GA13 ,  2H091LA03 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H091LA17 ,  2H091MA07 ,  2H092GA06 ,  2H092GA48 ,  2H092GA51 ,  2H092JA24 ,  2H092JA25 ,  2H092JA26 ,  2H092JA46 ,  2H092JB22 ,  2H092JB31 ,  2H092JB51 ,  2H092JB69 ,  2H092KA04 ,  2H092KA10 ,  2H092KB25 ,  2H092MA05 ,  2H092MA06 ,  2H092MA07 ,  2H092MA15 ,  2H092MA17 ,  2H092MA27 ,  2H092MA29 ,  2H092NA01 ,  2H092NA15 ,  2H092NA22 ,  2H092NA25 ,  2H092NA29 ,  2H092PA01 ,  2H092PA02 ,  2H092PA03 ,  2H092PA07 ,  2H092PA09 ,  2H092RA05 ,  5C094AA06 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA16 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094DA15 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EA07 ,  5C094EB02 ,  5C094ED15 ,  5C094FB12 ,  5F110BB01 ,  5F110DD03 ,  5F110DD13 ,  5F110DD25 ,  5F110EE07 ,  5F110EE09 ,  5F110EE45 ,  5F110EE48 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF09 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110GG32 ,  5F110GG47 ,  5F110GG52 ,  5F110HJ04 ,  5F110HJ13 ,  5F110HJ23 ,  5F110HL03 ,  5F110HL05 ,  5F110HM15 ,  5F110NN02 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN25 ,  5F110NN26 ,  5F110NN45 ,  5F110NN54 ,  5F110PP10 ,  5F110QQ04 ,  5F110QQ05 ,  5G435AA00 ,  5G435AA12 ,  5G435AA18 ,  5G435BB12 ,  5G435BB17 ,  5G435CC12 ,  5G435DD02 ,  5G435DD05 ,  5G435EE33 ,  5G435EE40 ,  5G435EE42 ,  5G435FF05 ,  5G435FF13 ,  5G435GG01 ,  5G435GG02 ,  5G435GG03 ,  5G435GG04 ,  5G435GG08 ,  5G435GG28 ,  5G435GG46 ,  5G435HH02 ,  5G435HH12 ,  5G435HH14 ,  5G435LL15
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (1)

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