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J-GLOBAL ID:200903010042494861

オキシ水酸化ニッケル及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001091938
Publication number (International publication number):2002179427
Application date: Mar. 28, 2001
Publication date: Jun. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高密度オキシ水酸化ニッケル及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明は、タッピング密度が1.8g/cc以上の水酸化ニッケルを水系分散媒に分散し、これに酸化剤を添加することにより高密度オキシ水酸化ニッケルを製造する方法により、タッピング密度が2.1g/cc以上、バルク密度が1.3g/cc以上である高密度オキシ水酸化ニッケルを製造する。
Claim (excerpt):
タッピング密度が2.1g/cc以上、バルク密度が1.3g/cc以上であるオキシ水酸化ニッケル。
IPC (3):
C01G 53/04 ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40
FI (3):
C01G 53/04 ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40 Z
F-Term (14):
4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AB08 ,  4G048AC06 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05 ,  5H029AL03 ,  5H029CJ14 ,  5H029HJ08 ,  5H029HJ10 ,  5H050CA08 ,  5H050GA15 ,  5H050HA08 ,  5H050HA10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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