エッジベースのイメージ・ヒストグラム解析用マシン・ビジョンの方法および装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：谷義一 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997524618
Publication number (International publication number)：2000503145
Application date： Dec. 31, 1996
Publication date： Mar. 14, 2000
Summary：

【要約】エッジベースのイメージ・ヒストグラム解析のシステムは、イメージ中の顕著なエッジ特性の識別が可能である。このシステムには、入力イメージ(22)中のピクセルに基いた複数のエッジ強度値を持つエッジ強度イメージを生成するエッジ検出器を含む。このエッジ検出器は、入力イメージ値の微分、即ち複数のイメージ・ピクセルでの強度の変化率を得ることにより強度値を生成するソベル演算子で可能である。マスク発生器(24)はこのエッジ検出器により出力される値に基きマスクを発生する。このマスクは高エッジ強度が十分な領域には存在しない入力イメージ値をマスクするために使用されることができる。マスク付与装置は、選択されたイメージ(25)にピクセル・マスク配列を付与する。ヒストグラム発生器は、マスクされたイメージ中のピクセル値のヒストグラム、即ちマスク(26)を通り抜けていくイメージ・ピクセル数のカウント値のヒストグラムを生成する。ピーク検出器は、顕著なイメージ強度値、或いはエッジ検出器(27)により検出されたエッジと関連している顕著なエッジ方向値を表すヒストグラム中の強度値を識別する。

Claim (excerpt)：

複数の入力イメージ・ピクセルを含む入力イメージを表すエッジ特性を決定する装置であって、複数の各入力イメージ・ピクセルの変化率を示す値を夫々有する複数のエッジ強度ピクセルを含むエッジ強度イメージを生成するエッジ強度検出手段、単数あるいは複数のエッジ強度ピクセルの夫々の値に依存しているマスク或いは非マスクの値を夫々有するピクセル・マスク配列を生成するために、前記エッジ強度検出手段と共に使用するマスク生成手段、配列中の非マスク値と対応する選択されたイメージからの各ピクセルのみを含むマスクされたイメージを生成するために、前記マスク発生手段と共に使用するマスク付与手段、マスクされたイメージでのピクセルのヒストグラムを生成するために、前記マスク付与手段と共に使用するヒストグラムの手段、および前記入力イメージ内で示されているエッジの顕著な特性を示す値を少なくとも一つ特定し、その値を表す信号を出力するために、前記ヒストグラム手段と共に使用するピーク検出手段を具備することを特徴とする装置。

IPC (3)：

G06T 7/00 , G01B 11/24 , G06T 9/20

FI (4)：

G06F 15/62 400 , G01B 11/24 K , G06F 15/70 320 , G06F 15/70 335 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開昭64-002177
特開昭62-032583
画像領域分割方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-128123 Applicant：ソニー株式会社

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