Pat
J-GLOBAL ID：200903010060032646

層構造体及びその製造方法

Inventor：
田中 秀康

About 田中 秀康


Applicant, Patent owner：
旭化成株式会社

About 旭化成株式会社


Agent (3)： 森 哲也 ,  内藤 嘉昭 ,  崔 秀▲てつ▼
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006165140
Publication number (International publication number)：2007022075
Application date： Jun. 14, 2006
Publication date： Feb. 01, 2007
Summary：
【課題】極めて高い酸素および水蒸気の遮断性を有する層構造体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 層構造体は複数の層を積層してなり、粘土薄膜層1と無機薄膜層2とをそれぞれ1層以上有するものである。粘土薄膜層1は、粘土を主要成分とし、粘土粒子が高度に配向して積層した構造を有し、自立膜として利用可能な機械的強度を有する。また、無機薄膜層2は、シリコン及びアルミニウムの少なくとも一方を含む無機化合物を主要成分とする。無機薄膜層2は粘土薄膜層1に隣接して積層してもよいし、バッファ層3のような他層を介して積層してもよい。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
複数の層を積層してなる層構造体において、粘土を主要成分とし且つ粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜層と、シリコン及びアルミニウムの少なくとも一方を含む無機化合物を主要成分とする無機薄膜層と、をそれぞれ1層以上有することを特徴とする層構造体。
IPC (3)：
B32B 9/04 ,  B32B 18/00 ,  H05K 1/03
FI (3)：
B32B9/04 ,  B32B18/00 Z ,  H05K1/03 610B
F-Term (46)：
4F100AA12B ,  4F100AA12C ,  4F100AA13B ,  4F100AA13C ,  4F100AA19B ,  4F100AA19C ,  4F100AA20B ,  4F100AA20C ,  4F100AC03A ,  4F100AC05A ,  4F100AK52B ,  4F100AK52C ,  4F100AK79B ,  4F100AK79C ,  4F100BA03 ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100DE01A ,  4F100EH46B ,  4F100EH46C ,  4F100EH66B ,  4F100EH66C ,  4F100EJ48B ,  4F100EJ48C ,  4F100GB41 ,  4F100JA20A ,  4F100JD03 ,  4F100JD04 ,  4F100JN01 ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4G073BA02 ,  4G073BA63 ,  4G073BA69 ,  4G073BD15 ,  4G073BD18 ,  4G073CM15 ,  4G073CM19 ,  4G073CM20 ,  4G073CM21 ,  4G073CM22 ,  4G073CN06 ,  4G073FB01 ,  4G073FB29 ,  4G073FD27 ,  4G073UB11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • ガスバリアフィルム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-313677   Applicant：凸版印刷株式会社
  • 有機EL素子
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-299276   Applicant：ティーディーケイ株式会社
Cited by examiner (6)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM