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J-GLOBAL ID：200903010162664205

表面検査装置、表面検査方法、及び基板の製造方法

Inventor： 安本 由
Applicant, Patent owner： 株式会社村上開明堂
Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005109751
Publication number (International publication number)：2006292412
Application date： Apr. 06, 2005
Publication date： Oct. 26, 2006
Summary：

【課題】 基板の欠陥を、簡便かつ高い精度で検知する。【解決手段】 基板1の表面を検査する表面検査装置100であって、暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面1aに照射するパターン照射部3と、検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、ストライプパターンが形成された被検査面1aの画像を撮像する撮像部4と、撮像部4により撮像された画像における暗部の像の消失を検知することにより、被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知部6とを備える。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

基板の表面を検査する表面検査装置であって、 暗部と明部とを交互に平行に配列させたストライプパターンを、被検査面としての前記基板の表面に照射するパターン照射部と、 検知しようとする欠陥の高さと比べて浅い被写体深度で、前記ストライプパターンが形成された前記被検査面の画像を撮像する撮像部と、 前記撮像部により撮像された前記画像における前記暗部の像の消失を検知することにより、前記被検査面上の欠陥を検知する欠陥検知部と を備えることを特徴とする表面検査装置。

IPC (3)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/30 ,  G01M 11/00

FI (3)：

G01N21/88 Z ,  G01B11/30 A ,  G01M11/00 M

F-Term (23)：

2F065AA49 ,  2F065BB01 ,  2F065BB25 ,  2F065CC21 ,  2F065FF06 ,  2F065FF41 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL28 ,  2F065LL41 ,  2F065PP12 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051AB10 ,  2G051BB01 ,  2G051BB07 ,  2G051BB20 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051EA16 ,  2G086GG01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 基板表面の検査方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-120426   Applicant：シャープ株式会社