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J-GLOBAL ID：200903010286760423

イオウ化合物を含有する排ガスを処理する方法と触媒/吸着材

Inventor：
キャンプベル ラリー イー

About キャンプベル ラリー イー

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ワグナー グレゴリウス ジェー

About ワグナー グレゴリウス ジェー


Applicant, Patent owner：
ゴール ライン エンビロンメンタル テクノロジーズ エルエルシー

About ゴール ライン エンビロンメンタル テクノロジーズ エルエルシー


Agent (1)： 飯田 幸郷 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000558901
Publication number (International publication number)：2002520136
Application date： Jun. 16, 1999
Publication date： Jul. 09, 2002
Summary：
【要約】【課題】 二酸化イオウあるいは硫化水素などの汚染物を排ガスから除去する方法と、それに適用する触媒/吸着材を提供する。【解決手段】 イオウ化合物を含有する排ガスの流れを貴金属成分とTi,Zr,Hf,Ce,Al,Si及びその混合物から選択した金属酸化物の吸着材成分とから形成した触媒/吸着材に接触させて排ガス中のイオウ成分を除去する。
Claim (excerpt)：
ガス状のイオウ化合物類を含有するガス流をイオウを吸着する状態にある触媒/吸着材と接触させることと、前記触媒/吸着材を貴金属成分とTi,Zr,Hf,Ce,Al,Si及びその混合物からなる部類から選択した金属酸化物吸着材成分とから成るものとしたことと、前記ガス流から前記ガス状のイオウ化合物類の一部を除去することとから成るガス流からガス状のイオウ化合物類を除去する方法。
IPC (5)：
B01D 53/52 ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/86
FI (5)：
B01D 53/34 121 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 123 A ,  B01D 53/34 126 ,  B01D 53/36 D
F-Term (46)：
4D002AA01 ,  4D002AA02 ,  4D002AA03 ,  4D002AA08 ,  4D002AC01 ,  4D002AC04 ,  4D002AC06 ,  4D002AC07 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA12 ,  4D002CA07 ,  4D002DA08 ,  4D002DA11 ,  4D002DA21 ,  4D002DA23 ,  4D002DA25 ,  4D002DA31 ,  4D002DA46 ,  4D002EA07 ,  4D002EA08 ,  4D002HA02 ,  4D048AA02 ,  4D048AA03 ,  4D048AB01 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA06Y ,  4D048BA07X ,  4D048BA08X ,  4D048BA17Y ,  4D048BA18Y ,  4D048BA19X ,  4D048BA20Y ,  4D048BA22X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34X ,  4D048BA35X ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BD01 ,  4D048BD03 ,  4D048CD01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (19)
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