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J-GLOBAL ID：200903010340826630

温度測定装置、処理装置及び処理方法

Inventor：
寺本 正史

About 寺本 正史


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 金本 哲男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996018464
Publication number (International publication number)：1997189613
Application date： Jan. 08, 1996
Publication date： Jul. 22, 1997
Summary：
【要約】【課題】 温度測定用ウエハにおける測定精度を安定なものとし、ケーブルレス測定も可能にする。【解決手段】 温度検出部となる温度測定ポイントE1〜E5を、半導体デバイス形成処理方法によって、基板32上にパターン形成する。接着剤を用いていないので、安定した精度が得られる。温度測定ポイントE1〜E5からの信号を取り出す端子部32は、基板の裏面に形成する。被処理基板を載置する載置台に、端子部32と接触自在な接触端子を設けることにより、処理装置内に信号用ケーブルが曝されず、ケーブルレスの温度測定が行える。
Claim (excerpt)：
被処理基板が載置される部材上で、被処理基板の面内温度を模擬的に測定するために用いる装置であって、温度検出部と、この温度検出部からの信号を端子部へと伝達する信号伝達部が、各々被処理基板と同一材質の基板にパターン形成され、前記端子部は、この基板の周縁部に形成されたことを特徴とする、温度測定装置。
IPC (4)：
G01K 1/14 ,  G01K 7/02 ,  G01K 13/00 ,  H01L 21/02
FI (4)：
G01K 1/14 E ,  G01K 7/02 A ,  G01K 13/00 ,  H01L 21/02 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 特開平2-254331
  • 特開平4-290245
  • 特開平2-171626
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