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J-GLOBAL ID：200903010378952833

頭髪化粧料用基剤

Inventor： 椿原 操 ,  脇田 奈奈 ,  加藤 一啓 ,  中津瀬 忠典
Applicant, Patent owner： 株式会社マンダム ,  和光純薬工業株式会社
Agent (1)： 平井 順二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996281676
Publication number (International publication number)：1997157339
Application date： Oct. 03, 1996
Publication date： Jun. 17, 1997
Summary：

【要約】【課題】 従来の頭髪化粧料用基剤に比べ、耐湿性、セット保持力及び弾力性に優れ、フレーキングを生じず、且つ毛髪に塗布した際の仕上がり具合に優れた新規な頭髪化粧料用基剤、並びにこれに用いる共重合体の提供。【解決手段】 シロキサンセグメントとエチレン性不飽和カルボン酸単位、及び要すればエチレン性不飽和カルボン酸エステル単位とを構成成分として含んで成るブロック共重合体を含有させて成る頭髪化粧料用基剤。

Claim (excerpt)：

シロキサンセグメントとエチレン性不飽和カルボン酸単位とを構成成分として含んで成るブロック共重合体を含有させて成る頭髪化粧料用基剤。

IPC (4)：

C08F293/00 MRL ,  A61K 7/11 ,  C08G 77/42 ,  C08G 77/452 NUK

FI (4)：

C08F293/00 MRL ,  A61K 7/11 ,  C08G 77/42 ,  C08G 77/452 NUK

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• アゾマクロ開始剤の製法およびブロック共重合体ならびにその水性分散液およびエマルションの製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-178528   Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
• 特開平4-372675
  
• シリコーン系ブロック共重合体エマルジョンの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-157883   Applicant：昭和高分子株式会社