オゾン接触方法、オゾン接触装置および水処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宮田金雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000036617
Publication number (International publication number)：2001225088
Application date： Feb. 15, 2000
Publication date： Aug. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】流路内に高いオゾン溶解速度を保ち、OHラジカル濃度を高めてオゾンを分割注入でき、しかも部品点数が少なくコンパクトで経済的で実用的なオゾン接触方法、オゾン接触装置および水処理装置を提供する。【解決手段】被処理流体または被処理流体に過酸化水素を混合した混合流体が流通する流路に被処理流体または混合流体の流れ方向に沿って複数箇所の負圧部分をつくり、それぞれの負圧部分にオゾンを含む流体を注入する。流路1に、流路断面積を被処理流体または混合流体の流れ方向に沿って徐々に縮小した絞り部12a,12bと、流路断面積を被処理流体または混合流体の流れ方向に沿って徐々に拡大した拡大部16a,16bと、絞り部出口13a,13bの近傍に設けられオゾンを含む流体が注入されるオゾン注入口15a,15bとからなるオゾン接触部10a,10bを、被処理流体または混合流体の流れ方向に沿って複数個配置し、絞り部出口の流路断面積を被処理流体または混合流体の流れ方向に沿って順に大きくした。

Claim (excerpt)：

被処理流体または被処理流体に過酸化水素を混合した混合流体が流通する流路に上記被処理流体または混合流体の流れ方向に沿って複数箇所の負圧部分をつくり、それぞれの負圧部分にオゾンを含む流体を注入することを特徴とするオゾン接触方法。

IPC (2)：

C02F 1/78 ZAB , B01F 1/00

FI (2)：

C02F 1/78 ZAB , B01F 1/00 A

F-Term (11)：

4D050AA02 , 4D050AA03 , 4D050AA13 , 4D050AA15 , 4D050AA20 , 4D050BB02 , 4D050BB09 , 4D050BD03 , 4D050BD06 , 4G035AA01 , 4G035AC23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

流水超音波発生法、その装置及びオゾン水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-099614 Applicant：寺澤吉彦, 寺澤拓彦
排水の高度処理装置および高度処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-078271 Applicant：三菱電機株式会社, 財団法人エンジニアリング振興協会

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