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J-GLOBAL ID：200903085003785093

排水の高度処理装置および高度処理方法

Inventor： 安永 望 ,  古川 誠司 ,  河相 好孝 ,  廣辻 淳二 ,  中山 繁樹
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社 ,  財団法人エンジニアリング振興協会
Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997078271
Publication number (International publication number)：1998272479
Application date： Mar. 28, 1997
Publication date： Oct. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 単位有機性炭素量を分解除去するために必要なオゾン量(ΔO3/ΔTOC)を低減し、汚濁有機物の分解除去効率が良好で、経済的で実用的な過酸化水素-オゾン併用タイプの排水の高度処理装置およびこれを用いた排水の高度処理方法の提供。【解決手段】 被処理水に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理水中の有機物を分解除去する装置において、被処理水の流路1と、流路1に過酸化水素を導入する手段7と、流路1にオゾン化ガスを少なくとも二箇所以上で導入するための手段5と、を備えた装置、および流路1に被処理水を通水し、流路1を流れる被処理水に過酸化水素を導入し、続いて過酸化水素を含み且つ流路1を流れる被処理水に、少なくとも二箇所以上でオゾン化ガスを導入する方法。

Claim (excerpt)：

被処理水に過酸化水素とオゾンとを添加、混合して被処理水中の有機物を分解除去する装置において、該装置は、被処理水の流路と、前記流路に過酸化水素を導入する手段と、前記流路にオゾン化ガスを少なくとも二箇所以上で導入するための手段と、を備えたことを特徴とする排水の高度処理装置。

IPC (2)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/72 ZAB

FI (2)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/72 ZAB Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 排水の高度処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-075894   Applicant：三菱電機株式会社, 財団法人エンジニアリング振興協会