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J-GLOBAL ID：200903011030327249

遠赤外線を用いた殺菌方法

Inventor： 加藤 升三郎 ,  内山 満 ,  金田 吉見
Applicant, Patent owner： フィグラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998082417
Publication number (International publication number)：1999253535
Application date： Mar. 16, 1998
Publication date： Sep. 21, 1999
Summary：

【要約】【目的】遠赤外線による殺菌効率を向上させることで、安全で、局所処理が可能で、省エネかつ短時間化が図れ、また、低エネルギ電磁波であり対象にほとんど損傷を与えない等の点で優れた殺菌処理方法を提供する。【構成】 処理対象物の表面へ水膜を形成した後、遠赤外線を放射させて殺菌処理させる。また、処理対象物の表面を乾燥させた後、処理対象物の表面へ水膜を形成し、その後、遠赤外線を放射させて殺菌処理させる。この水膜は、少なくとも処理対象物の細菌類の付着面上に均一な薄膜として形成されている

Claim (excerpt)：

処理対象物の表面へ水膜を形成した後、遠赤外線を放射させて殺菌処理させることを特徴とする遠赤外線を用いた殺菌方法。

IPC (2)：

A61L 2/08 ,  A61L 2/02

FI (2)：

A61L 2/08 ,  A61L 2/02 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 遠赤外線殺菌装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-115324   Applicant：ミノルタ株式会社, 木内吉寛, 竹迫清之
• 滅菌方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-000982   Applicant：東洋熱工業株式会社
• 滅菌方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-179955   Applicant：東洋熱工業株式会社, 有限会社ゆうい工房