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J-GLOBAL ID:200903011042637197

回折光学素子及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 奈良 武
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000109237
Publication number (International publication number):2001296414
Application date: Apr. 11, 2000
Publication date: Oct. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 レリーフパターンに気泡の混入のない回折光学素子を簡単に製造する。【解決手段】 回折光学素子は、使用する波長帯域で実質的に透明であり、異なった少なくとも2つの第1及び第2の光学材料3,4が積層されると共に、少なくとも第1の光学材料3の境界面にレリーフパターン5が形成されている。レリーフパターン5の有効面外に設けられたカバー材当て付け部7と、使用する波長帯域で実質的に透明であり、カバー当て付け部7に接合されると共に第2の光学材料4に積層されるカバー材6とを備える。
Claim (excerpt):
使用する波長帯域で実質的に透明であり、異なった少なくとも2つの第1及び第2の光学材料が積層されると共に、少なくとも第1の光学材料の境界面にレリーフパターンが形成された回折光学素子であって、前記レリーフパターンの有効面外に設けられたカバー材当て付け部と、使用する波長帯域で実質的に透明であり、前記カバー当て付け部に接合されると共に前記第2の光学材料に積層されるカバー材と、を備えていることを特徴とする回折光学素子。
IPC (5):
G02B 5/18 ,  B29C 39/10 ,  G02B 3/08 ,  B29L 9:00 ,  B29L 11:00
FI (5):
G02B 5/18 ,  B29C 39/10 ,  G02B 3/08 ,  B29L 9:00 ,  B29L 11:00
F-Term (15):
2H049AA03 ,  2H049AA04 ,  2H049AA43 ,  2H049AA45 ,  2H049AA51 ,  2H049AA63 ,  2H049AA64 ,  2H049AA68 ,  4F204AG03 ,  4F204AH73 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EB11 ,  4F204EF27 ,  4F204EK06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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