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J-GLOBAL ID：200903011047797516

プラズマトーチ

Inventor： 北橋 正光 ,  黒川 巌 ,  箕西 幹夫 ,  徳永 裕之
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Agent (1)： 米原 正章 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993274310
Publication number (International publication number)：1995130490
Application date： Nov. 02, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 電極ホルダが梨地化やブリッジ現象の発生が防止できるようにする。【構成】 電極体の先部及び少なくとも、上記ノズルとの距離が最も短くなる部位付近が融点の高い物質、またはこの融点の高い物質に仕事関数の低い物質またはその酸化物を混合させた物質で構成する。

Claim (excerpt)：

電極体と、電極体の先端部をプラズマガス通路を隔ててカバーするノズルを備えるプラスマガス旋回流式のプラズマトーチにおいて、上記電極体の先部及び少なくとも、上記ノズルとの距離が最も短くなる部位付近が融点の高い物質、またはこの融点の高い物質に仕事関数の低い物質またはその酸化物を混合させた物質で構成されることを特徴とするプラズマトーチ。

IPC (4)：

H05H 1/34 ,  B23K 10/00 504 ,  B23K 35/04 ,  B23K 35/22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-299860
  
• クリーム半田印刷装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-069867   Applicant：イビデン株式会社, イビデン産業株式会社
• 特開平1-299777
  
• 特開昭61-271800