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J-GLOBAL ID：200903011049061827

被除去物の除去方法

Inventor： 梅沢 浩之 ,  井関 正博 ,  対比地 元幸 ,  飯沼 宏文
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 岡田 敬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001334261
Publication number (International publication number)：2003135914
Application date： Oct. 31, 2001
Publication date： May. 13, 2003
Summary：

【要約】【課題】 従来、CMP等の機械的加工により発生する排水は、CMPスラリーに含まれる砥粒が微粒子であるためにコロイド溶液となり、有効な濾過方法がなかった。【解決手段】 本発明では、コロイド溶液の微粒子を含む排水を第1のフィルタ1の表面に吸引により形成されるゲル膜より成る第2のフィルタ2を利用して濾過する。このときの吸引圧力は極めて微弱にして濾過量を一定に維持しながら、第2のフィルタ2の目詰まりを延ばしながら濾過能力を維持している。これにより主に0.15μm以下の微粒子も除去できる。

Claim (excerpt)：

流体に含まれる被除去物をゲル膜からなるフィルタで流体中の被除去物を濾過することを特徴とした被除去物の除去方法。

IPC (5)：

B01D 37/02 ,  B01D 37/04 ,  B01D 61/14 500 ,  B24B 57/02 ,  H01L 21/304 648

FI (5)：

B01D 37/02 D ,  B01D 37/04 ,  B01D 61/14 500 ,  B24B 57/02 ,  H01L 21/304 648 F

F-Term (37)：

3C047FF08 ,  3C047GG17 ,  4D006GA07 ,  4D006HA41 ,  4D006HA93 ,  4D006JA02A ,  4D006JA04A ,  4D006JA07A ,  4D006JA31Z ,  4D006JA56Z ,  4D006KA31 ,  4D006KB16 ,  4D006KE03P ,  4D006KE03Q ,  4D006KE08P ,  4D006KE08Q ,  4D006KE13P ,  4D006KE15Q ,  4D006KE16Q ,  4D006MA03 ,  4D006MA21 ,  4D006MA31 ,  4D006MC22X ,  4D006PA02 ,  4D006PB08 ,  4D006PB23 ,  4D006PC01 ,  4D066BA01 ,  4D066BB12 ,  4D066BB20 ,  4D066BB32 ,  4D066CA13 ,  4D066EA06 ,  4D066EA08 ,  4D066EA09 ,  4D066EA14 ,  4D066FA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 流体の被除去物除去装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-324366   Applicant：三洋電機株式会社
• 流体の被除去物除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-353822   Applicant：三洋電機株式会社
• 排水の再生システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-156510   Applicant：三洋電機株式会社
• 半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-324465   Applicant：三洋電機株式会社