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J-GLOBAL ID：200903011113668692

レジスト薄膜形成装置およびレジスト薄膜形成方法

Inventor： 木瀬 一夫 ,  尾崎 一人 ,  奥村 剛
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993085490
Publication number (International publication number)：1994275509
Application date： Mar. 18, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：

【要約】【目的】 基板上に均一な膜厚のレジスト薄膜を形成することができるレジスト薄膜形成装置およびレジスト薄膜形成方法を提供する。【構成】 レジスト塗布ユニット10と加熱ユニット20との間に待機ユニット30が設けられ、レジスト塗布ユニット10によってその表面にレジスト液が塗布された基板がカセット(待機位置)50に待機される。【効果】 カセット50に待機されている間に、レジスト液のレべリングと予備乾燥が行われて、均一な膜厚のレジスト薄膜を形成することができる。

Claim (excerpt)：

基板表面にレジスト液を塗布する塗布手段と、前記レジスト液が塗布された基板を加熱する加熱手段とを備え、前記基板表面にレジスト薄膜を形成するレジスト薄膜形成装置において、前記塗布手段と前記加熱手段との間で、前記塗布手段によってその表面にレジスト液が塗布された基板を待機位置に待機させた後、前記加熱手段に搬送する待機手段をさらに備えたレジスト薄膜形成装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501

FI (2)：

H01L 21/30 361 E ,  H01L 21/30 361 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平1-209737
  
• 硬基板塗布・プリベ-ク装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-140966   Applicant：富士写真フイルム株式会社