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J-GLOBAL ID：200903011131591761

残留オゾンを含む排水の処理方法及び装置

Inventor：
水谷 淳二

About 水谷 淳二


Applicant, Patent owner：
株式会社ササクラ

About 株式会社ササクラ


Agent (1)： 景山 憲二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998201322
Publication number (International publication number)：2000015255
Application date： Jun. 30, 1998
Publication date： Jan. 18, 2000
Summary：
【要約】【課題】 構造が簡単で低コストの装置で排水中の残留オゾンを分解する。【解決手段】 残留オゾンを含む排水の処理装置は、仕切板13で仕切って複数の流路Sを形成すると共に高い水面位置に制御して滞留時間をかけて排水を流すように構成した貯水槽1と、これを出た排水を通過させる紫外線照射装置2とで構成されている。貯水槽1は通気口15のほか上蓋14で覆われていて、空気の流入が制限されている。【効果】 排水が空気中の炭酸ガスと接触せず、その中の溶存オゾンの自己分解機能が維持され、残留オゾンが貯水槽中で短時間に分解してその濃度が半減し、更に紫外線照射装置で効率良く分解されて消滅する。貯水槽と小容量の紫外線照射装置との簡単で安価な装置で残留オゾンを処理できる。
Claim (excerpt)：
オゾンを含む排水を外気の流入が少なくとも制限された容器の水面下に設けられた水入口から前記容器に導入し、該容器で所定時間滞留させた後該容器の水出口から排出し、紫外線照射装置に通して前記排水に紫外線を照射する、ことを特徴とする残留オゾンを含む排水の処理方法。
IPC (2)：
C02F 1/32 ,  C02F 1/78
FI (2)：
C02F 1/32 ,  C02F 1/78
F-Term (9)：
4D037AA11 ,  4D037AB11 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB04 ,  4D050AA01 ,  4D050AA05 ,  4D050BB02 ,  4D050CA07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • オゾン除去装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-308623   Applicant：東急車輛製造株式会社
  • オゾン接触反応槽
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-127647   Applicant：株式会社クボタ
  • オゾン含有水の処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-046660   Applicant：オルガノ株式会社

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