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J-GLOBAL ID:200903011363114048

ガスバリアフィルム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石川 泰男 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001304264
Publication number (International publication number):2003103690
Application date: Sep. 28, 2001
Publication date: Apr. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 真空蒸着法により積層体中のガスバリア層を形成した場合であっても、当該ガスバリア層の直下の層が蒸着時の熱により変形したり、劣化することがなく、その結果優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを提供することを課題とする。【解決手段】 基材フィルムと、当該基材フィルム上に位置しており、真空蒸着法によって形成されたガスバリア層を少なくとも一層有する積層体と、からなるガスバリアフィルムであって、前記積層体中のガスバリア層の直下には、ガラス転移温度が90°C以上の高分子樹脂によって形成されている耐熱層が位置していることを特徴とするガスバリアフィルムことを特徴とするガスバリアフィルムを提供する。
Claim (excerpt):
基材フィルムと、当該基材フィルム上に位置しており、真空蒸着法によって形成されたガスバリア層を少なくとも一層有する積層体と、からなるガスバリアフィルムであって、前記積層体中のガスバリア層の直下には、ガラス転移温度が90°C以上の高分子樹脂によって形成されている耐熱層が位置していることを特徴とするガスバリアフィルム。
IPC (6):
B32B 9/00 ,  B32B 7/02 105 ,  C08J 7/06 CER ,  C08J 7/06 CEZ ,  C23C 14/08 ,  C08L101:00
FI (6):
B32B 9/00 A ,  B32B 7/02 105 ,  C08J 7/06 CER Z ,  C08J 7/06 CEZ ,  C23C 14/08 A ,  C08L101:00
F-Term (71):
4F006AA11 ,  4F006AA12 ,  4F006AA31 ,  4F006AA35 ,  4F006AA36 ,  4F006AA39 ,  4F006AA40 ,  4F006AB74 ,  4F006BA05 ,  4F006CA07 ,  4F006DA01 ,  4F100AA19 ,  4F100AA21 ,  4F100AB10 ,  4F100AK01C ,  4F100AK02A ,  4F100AK02C ,  4F100AK03A ,  4F100AK03C ,  4F100AK18 ,  4F100AK41A ,  4F100AK41C ,  4F100AK42 ,  4F100AK43A ,  4F100AK43C ,  4F100AK45A ,  4F100AK45C ,  4F100AK49A ,  4F100AK49C ,  4F100AK54A ,  4F100AK54C ,  4F100AK55A ,  4F100AK55C ,  4F100AK56A ,  4F100AK56C ,  4F100AK57A ,  4F100AK57C ,  4F100AK62A ,  4F100AK62C ,  4F100AK66A ,  4F100AK66C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH66 ,  4F100EH66B ,  4F100GB15 ,  4F100GB23 ,  4F100JA05A ,  4F100JA05C ,  4F100JA12A ,  4F100JA12C ,  4F100JB06 ,  4F100JD02B ,  4F100JD03 ,  4F100JD04 ,  4F100JJ03 ,  4F100JJ03C ,  4F100JL02 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00C ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA44 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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