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J-GLOBAL ID:200903011471778572

ポジ型ホトレジスト組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993263890
Publication number (International publication number):1995120914
Application date: Oct. 21, 1993
Publication date: May. 12, 1995
Summary:
【要約】【目的】 各種基板、特にITO基板に対する密着性の優れたポジ型ホトレジスト組成物を提供する。【構成】 ノボラック樹脂およびナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを主成分とする感光剤と、メラミン誘導体またはグアナミン誘導体とを含有することを特徴とする、ポジ型ホトレジスト組成物。
Claim (excerpt):
ノボラック樹脂と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを主成分とする感光剤と、メラミン誘導体および/またはグアナミン誘導体からなる密着増強剤とを含有してなることを特徴とする、ポジ型ホトレジスト組成物。
IPC (7):
G03F 7/004 522 ,  C07D251/18 ,  C07D251/66 ,  C08L 61/06 LMR ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 段差基板用塗布溶液
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-296585   Applicant:東ソー株式会社
  • 特開昭59-113435
  • 特開昭63-097948
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