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J-GLOBAL ID:200903011542261576

表面検査装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991294458
Publication number (International publication number):1993133730
Application date: Nov. 11, 1991
Publication date: May. 28, 1993
Summary:
【要約】【目的】 機械的走査を行わずに表面検査を行うことにより、精度確保及び高速化を実現する。【構成】 互いに異なる周波数のパルスで変調された光ビームを検査対象物に向け照射する。PSD28が検査対象物による反射光を受光し電流出力する。その信号から各変調周波数に対応する直流成分が分離され、測長演算が行われる。【効果】 走査を行わずにある区域を同時に測長でき、機械的走査排除による精度確保及び同時測長による高速化が実現される。
Claim (excerpt):
鋳物等の検査対象物の表面に光ビームを照射し、反射光に基づき測長演算を行い検査対象物の表面状態を検査する表面検査装置において、互いに異なる周波数のパルスで変調された光ビームを検査対象物に向け照射する複数の発光部と、検査対象物による反射光を受光し電流出力する受光部と、受光部の出力電流に基づき各変調周波数の光ビームの集光位置を表す直流成分を生成出力する周波数分離部と、この直流成分に基づき各変調周波数毎に測長演算を行う処理部と、を備えることを特徴とする表面検査装置。
IPC (2):
G01B 11/30 ,  G01N 21/88
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭63-222202
  • 特開昭63-195774
  • 特開昭62-228902

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