Pat

J-GLOBAL ID：200903011571700317

炭素系吸着剤の再生方法及び炭素系吸着剤の再生機能を有する排ガス処理装置

Inventor： 小野 義広 ,  村橋 一毅
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (2)： 小堀 益 ,  堤 隆人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003362185
Publication number (International publication number)：2005125200
Application date： Oct. 22, 2003
Publication date： May. 19, 2005
Summary：

【課題】炭素系吸着剤を簡易に且つ効率良く再生することができる方法と装置を提供すること。【解決手段】吸着室20内部に炭素系吸着剤21を収容し炭素系吸着剤21に排ガス10を接触させて排ガス10中の有害物質を吸着除去し、有害物質を吸着した炭素系吸着剤21を再生する方法において、炭素系吸着剤21を誘導加熱することにより炭素系吸着剤21を再生するようにした。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

吸着室内部に炭素系吸着剤を収容し該炭素系吸着剤に排ガスを接触させて排ガス中の有害物質を吸着除去し、有害物質を吸着した炭素系吸着剤を再生する方法において、 前記炭素系吸着剤を誘導加熱することにより炭素系吸着剤を再生することを特徴とする炭素系吸着剤の再生方法。

IPC (2)：

B01D53/70 ,  B01J20/34

FI (2)：

B01D53/34 134E ,  B01J20/34 D

F-Term (17)：

4D002AA06 ,  4D002AA21 ,  4D002AC02 ,  4D002AC04 ,  4D002BA04 ,  4D002CA08 ,  4D002CA13 ,  4D002DA41 ,  4D002EA08 ,  4G066AA05B ,  4G066CA25 ,  4G066CA33 ,  4G066DA02 ,  4G066GA03 ,  4G066GA06 ,  4G066GA23 ,  4G066GA39

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 排ガス処理装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-245730   Applicant：住友重機械工業株式会社